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J-GLOBAL ID：202202230540194058   整理番号：22A1083207

有機発光デバイスの劣化に及ぼすブリスタ形成の影響【JST・京大機械翻訳】

Effects of blister formation on the degradation of organic light emitting devices

著者 (8件)： Cromwell J. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA) ,  Adeniji S. A. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA) ,  Oyewole D. O. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA) ,  Koech R. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA) ,  Ichwani R. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA) ,  Agyei-Tuffour B. (Department of Materials Science and Engineering, School of Engineering Sciences, University of Ghana, Legon-Accra, Ghana) ,  Oyewole O. K. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA) ,  Soboyejo W. O. (Department of Mechanical Engineering, Worcester Polytechnic Institute, 100 Institute Road, Worcester, Massachusetts 01609, USA)
資料名： AIP Advances (Web)  (AIP Advances (Web))
巻： 12  号： 3  ページ： 035308-035308-8  発行年： 2022年 
JST資料番号： U7121A  ISSN： 2158-3226  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,ブリスタ形成のメカニズムと有機発光素子(OLEDs)の分解に及ぼすそれらの効果の複合実験と計算研究の結果を示した。ブリスター形成は,印加バイアスに関連した熱誘起不整合応力の影響に起因した。これらは,OLED作製に用いられる溶媒により影響される界面亀裂現象をもたらす。異なる溶媒(トルエン,クロロホルムおよびクロロベンゼン)に溶解したポリ[2-メトキシ-5-(2-エチルヘキシルオキシ)-1,4-フェニレンビニレンの溶液から作成した活性層上に析出したポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホナートの電子輸送層を用いてOLEDを初めて作製した。次に,種々の溶媒(トルエン,クロロホルム,およびクロロベンゼン)と発光層厚さを用いて作製したデバイスに対して,適用したバイアスの下でブリスタと分解の形成を研究した。次に,下層の機械的性質を,OLED構造の性能を低下させるブリスタの形成を説明する界面破壊力学モデルに組み込んだ。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 機械的性質 ,  力学モデル ,  ブリスタリング ,  不整合 ,  バイアス ,  *活性層 ,  下層 ,  界面亀裂 ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン
準シソーラス用語： 発光層 ,  界面破壊 ,  *有機EL素子 ,  電子輸送層 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 発光素子  (NC03082G)

物質索引 (1件)： クロロホルム

タイトルに関連する用語 (2件)： 有機発光デバイス ,  ブリスタ