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J-GLOBAL ID：202202231213934358   整理番号：22A0571850

珪質フェリハイドライトによる廃水からのSb(V)の除去:フェリハイドライト,共沈Siおよび吸着Sb(V)間の相互作用【JST・京大機械翻訳】

Removal of Sb(V) from wastewater via siliceous ferrihydrite: Interactions among ferrihydrite, coprecipitated Si, and adsorbed Sb(V)

著者 (8件)： Chen Lei (College of Environment & Resource Sciences, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, People’s Republic of China) ,  Han Yu (College of Environment & Resource Sciences, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, People’s Republic of China) ,  Li Wei (Hydrochina Huadong Engineering Corporation Limited, Hangzhou, 311122, People’s Republic of China) ,  Zhan Xiaohui (College of Environment & Resource Sciences, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, People’s Republic of China) ,  Wang He (State Grid Zhejiang Electric Power Corporation Research Institute, Hangzhou, 310014, People’s Republic of China) ,  Shi Chengchao (College of Environment & Resource Sciences, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, People’s Republic of China) ,  Sun Yanping (College of Environment & Resource Sciences, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, People’s Republic of China) ,  Shi Huixiang (College of Environment & Resource Sciences, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, People’s Republic of China)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 291  号： P3  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フェリハイドライト(Fh)は良好なSb(V)吸着挙動を示すが,その非晶質構造の不安定性はその工学的応用を制限する。本研究では,これらの限界を解決するために,共沈により珪質水酸化鉄(SiFh)を調製した。X線回折(XRD),Fourier変換赤外(FTIR)分光法,X線光電子分光法(XPS),およびSiFhエージング試験は,Fe-O-Siリンクで覆われたFh粒子の成長が,それらの非晶質構造を維持しながら抑制されることを明らかにした。一方,XRDパターンは,SiFhが5回の吸着-脱着サイクル後に優れた安定性を維持することを示した。時効過程で,添加したSiはSiFhとSb(V)の間の静電相互作用を減少させ,Sb(V)とFhの間の親和性を弱めた。しかし,Sb(V)の大部分は,7日間の時効後にFe格子に入り,これは再利用中のSb(V)回収に有利であった。さらに,SiFh上への模擬繊維廃水から吸着されたSb(V)は,最も高い吸着エネルギー(E_ads)を有し,SiFhの表面での不安定な内圏錯化を意味した。一方,SO_42-,NO_3-,Ca2+およびMg2+の存在はSb(V)外圏吸着に寄与した。これらの因子の両方がSb(V)脱着に寄与した。したがって,SiFhは,その容易な調製プロセス,安定性,および最適再生特性のため,有望な吸着剤である。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *吸着 ,  時効 ,  赤外線 ,  脱着 ,  *廃水 ,  *ケイ素 ,  鉄 ,  錯体生成 ,  静電相互作用 ,  吸着剤 ,  *共沈 ,  X線光電子分光法 ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： *フェリハイドライト , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 珪質フェリハイドライト ,  アンチモン(V) ,  安定性 ,  再生

分類 (1件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W)

タイトルに関連する用語 (7件)： フェリハイドライト ,  廃水 ,  Sb ,  共沈 ,  Si ,  吸着 ,  相互作用