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J-GLOBAL ID:202202231293336998   整理番号:22A0901307

GOからrGOへ:高エネルギーイオン照射によって誘発される進行リップリングの解析【JST・京大機械翻訳】

From GO to rGO: An analysis of the progressive rippling induced by energetic ion irradiation
著者 (16件):
資料名:
巻: 586  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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イオン照射は酸化グラフェンを減少させるが,個々のシートにおいて形態的および構造的変化を引き起こす。酸化グラフェン(GO)膜を,2~16MeVの範囲の異なる原子数とエネルギーを有するイオンビームで真空下で照射した。還元酸化グラフェン(rGO)の個々のシートによって受ける構造的および形態学的変化を,透過型電子顕微鏡およびRaman分光法によって分析した。特に,電子回折は回折スポットの変形によるシートの変形を強調する。このような特徴の定量的構造評価を,電子回折パターンから抽出した半径方向および方位角プロファイルの解析に基づく新しい方法を用いて行った。スポット変形は,逆格子ベクトルと平行方向に垂直な方向の両方を含む。前者の変形は表面の非平面性に関連し,後者は変形格子の再配列に関係がある。実験的証拠は,1ミクロン以下の直径の電子ビーム内に存在する多くの異なる配向があり,シートの表面法線はすべての方向で変化しなければならないことを示した。これはシート内の微視的粗さの結果である。スポットの進行性変形は吸収イオン線量に依存する。rGOシート上で高分解能で行った形態学的分析は,構造結果を確認した:rGOシートは,静的ではなく,リップル構造をとる。集束リップルは線量依存性である。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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炭素とその化合物  ,  吸着剤  ,  光化学一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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