文献

J-GLOBAL ID：202202231722420430   整理番号：22A0856801

水溶液からのシプロフロキサシン除去強化のためのポリオキソメタレート修飾UiO-66-NH_2のソルボサーマル合成【JST・京大機械翻訳】

Solvothermal synthesis of polyoxometalate-modified UiO-66-NH₂ for enhanced removal of ciprofloxacin from aqueous solution

著者 (7件)： Hu Hao (Hubei Key Laboratory of Pollutant Analysis & Reuse Technology, College of Chemistry and Chemical Engineering, Hubei Normal University, Huangshi, People’s Republic of China) ,  Lv Qin (Hubei Key Laboratory of Pollutant Analysis & Reuse Technology, College of Chemistry and Chemical Engineering, Hubei Normal University, Huangshi, People’s Republic of China) ,  Feng Shi-Ya (Hubei Key Laboratory of Pollutant Analysis & Reuse Technology, College of Chemistry and Chemical Engineering, Hubei Normal University, Huangshi, People’s Republic of China) ,  Li Xiong-Jian (Hubei Key Laboratory of Pollutant Analysis & Reuse Technology, College of Chemistry and Chemical Engineering, Hubei Normal University, Huangshi, People’s Republic of China) ,  Yang Yun (College of Chemistry and Environmental Engineering, Hanjiang Normal University, Shiyan, People’s Republic of China) ,  Yang Shui-Jin (Hubei Key Laboratory of Pollutant Analysis & Reuse Technology, College of Chemistry and Chemical Engineering, Hubei Normal University, Huangshi, People’s Republic of China) ,  Yang Shui-Jin (Institute for Advanced Materials of Hubei Normal University, Huangshi, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 33  号： 7  ページ： 4184-4196  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 廃水からのシプロフロキサシン(CIP)の除去は環境を保護するために重要である。本研究では,リンモリブデン酸(H_3PMo_12O_40)修飾金属-有機骨格(UiO-66-NH_2)材料を,廃水からCIPを除去するためのソルボサーマル法によって調製した。CIP上のH_3PMo_12O_40@UiO-66-NH_2の吸着性能は,純粋なUiO-66-NH_2のそれより著しく優れていた。CIP濃度,接触時間,およびpHを含む変化した条件によるいくつかの実験を,CIP溶液へのH_3PMo_12O_40@UiO-66-NH_2の吸着性能を理解するために調査した。実験結果から,pH=7,T=323Kのとき,H_3PMo_12O_40の量は0.14gであり,これはH_3PMo_12O_40@UiO-66-NH_2に対する最良のCIP吸着条件であり,吸着量は164.28mgg-1であった。修飾UiO-66-NH_2吸着剤上のCIP分子の吸着動力学と等温線は,それらが基本的に擬二次速度モデルとLangmuirモデルと一致することを示した。熱力学パラメータは吸着プロセスが自発的吸熱であることを示した。5サイクルの実験後,吸着剤はCIPの81%をまだ除去でき,CIPに対して再現性があり実用的であることを示した。したがって,H_3PMo_12O_40@UiO-66-NH_2は,抗生物質の吸着剤として潜在的用途価値を有する。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2021 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *吸着 ,  廃水 ,  抗生物質 ,  吸着剤 ,  等温線 ,  接触時間 ,  脂環式化合物 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族フッ素化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  ケト酸
準シソーラス用語： *ソルボサーマル合成 ,  Langmuirモデル ,  吸着量 ,  *ポリオキソメタレート ,  速度モデル ,  吸着能力 ,  吸着動力学 ,  MOF【配位高分子】 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

物質索引 (1件)： シプロフロキサシン

タイトルに関連する用語 (7件)： 水溶液 ,  シプロフロキサシン ,  強化 ,  ポリオキソメタレート ,  修飾 ,  UiO-66 ,  ソルボサーマル合成