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J-GLOBAL ID：202202231934216484   整理番号：22A1049902

小分子カルボン酸存在下でのポリイミド上でのCr(VI)の可視光光触媒還元【JST・京大機械翻訳】

Visible light photocatalytic reduction of Cr(VI) over polyimide in the presence of small molecule carboxylic acids

著者 (7件)： Zhu Chaosheng (Zhoukou Key Laboratory of Environmental Pollution Prevention and Remediation, School of Chemistry and Chemical Engineering, Zhoukou Normal University, Zhoukou 466001, China) ,  Zhu Chaosheng (College of Chemistry and Molecular Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou 450001, China) ,  Li Yunlin (Zhoukou Key Laboratory of Environmental Pollution Prevention and Remediation, School of Chemistry and Chemical Engineering, Zhoukou Normal University, Zhoukou 466001, China) ,  Zhang Yongcai (School of Chemistry and Chemical Engineering, Yangzhou University, Yangzhou 225009, China) ,  Liu Jin (Henan Key Laboratory of Rare Earth Functional Materials, Zhoukou Normal University, Zhoukou 466001, China) ,  Hao Xin-qi (College of Chemistry and Molecular Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou 450001, China) ,  Song Mao-ping (College of Chemistry and Molecular Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou 450001, China)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 642  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,小分子カルボン酸(SMCAs)の存在下でポリイミド(PI)による高毒性Cr(VI)の可視光誘起光触媒変換について報告した。PI-SMCA表面錯体の生成は,PIの電子-正孔再結合の抑制と,より多くの有機ラジカル(RCOO・-)の生成をもたらし,Cr(VI)の還元を加速した。また,この知見は,Cr(VI)のSMCA促進変換がSMCAsの構造特性に依存することを示した。Cr(VI)の除去は,光強度とSMCA含有量の上昇,Fe3+とCu2+の添加,または溶液pHの減少によってさらに促進された。PIの酸耐性と可溶性Cr(III)-SMCA複合体の形成から,PIの5サイクル試験後でもCr(VI)除去率の僅かな低下しか観察されなかった。さらに,PIは,余分な試薬を添加することなく,可視光照射下で実際のCr(VI)含有皮革廃水の処理において効果的で効率的であった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 廃水 ,  *ポリイミド ,  *カルボン酸 ,  皮革 ,  耐酸性 ,  複合体 ,  *可視光 ,  構造特性 ,  *小分子 ,  *六価クロム ,  *光触媒
準シソーラス用語： 光強度 ,  可視光照射 ,  電子-正孔再結合 ,  *光触媒還元 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ポリイミド ,  カルボン酸 ,  Cr(VI) ,  実際の皮革工場廃水 ,  光触媒還元

分類 (4件)： 脂肪族カルボン酸・ペルオキシカルボン酸・チオカルボン酸  (CF03200E) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  重金属とその化合物一般  (SB05021R) ,  ミセル  (CB11020N)

タイトルに関連する用語 (6件)： 小分子 ,  カルボン酸 ,  ポリイミド ,  Cr ,  可視光 ,  光触媒還元