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J-GLOBAL ID:202202231957237025   整理番号:22A0178767

UV照射下でのNiO/TiO_2-FとCuO/TiO_2-Fの複合材料を用いたカフェイン光触媒分解【JST・京大機械翻訳】

Caffeine photocatalytic degradation using composites of NiO/TiO2-F and CuO/TiO2-F under UV irradiation
著者 (8件):
資料名:
巻: 288  号: P2  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0843A  ISSN: 0045-6535  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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新興汚染物質の除去への関心は過去10年間増加した。p-nヘテロ接合を用いた光触媒分解は,環境中で持続的であるこれらのタイプの物質の分解を効果的に提供することができた。本研究では,TiO_2-FおよびCuO/TiO_2-FおよびNiO/TiO_2-F複合材料の合成,キャラクタリゼーションおよび光触媒評価を,UV照射を用いたカフェインの光支援分解において研究した。二酸化チタンのフッ素化は,材料のいくつかの物理化学的性質の変化を誘導し,それは,元のTiO_2と比較して,表面積とバンドギャップエネルギーの減少,ならびに結晶サイズの増加に寄与した。γ→Ti-F化学種が生成し,電荷分離過程に有利であった。TiO_2-F表面上のNiOと比較してCuO種の最も高い偏析が形成でき,欠陥サイトを増加させ,バンドギャップを減少させることができた。半導体間のヘテロ接合の形成が証明され,複合材料の光触媒特性の観察された改善の原因となっている。光触媒試験は,カフェインの重要な分解を証明した。しかし,無機化は不完全であった。複合材料の安定性およびカフェインの光触媒処理におけるそれらの潜在的使用を再利用試験によって評価した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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その他の汚染原因物質  ,  光化学反応 
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