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J-GLOBAL ID：202202232792821428   整理番号：22A0976077

CO_2/CH_4ガス分離用の加熱塩化ナトリウムによるSSZ-13膜のテンプレート除去と表面修飾【JST・京大機械翻訳】

Template Removal and Surface Modification of an SSZ-13 Membrane with Heated Sodium Chloride for CO₂/CH₄ Gas Separation

著者 (8件)： Wang He-Li (Institute of Advanced Materials, State-Province Joint Engineering Laboratory of Zeolite Membrane Materials, College of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangxi Normal University, P. R. China) ,  Wang He-Li (Energy Institute, Jiangxi Academy of Sciences, P. R. China) ,  Zhu Mei-Hua (Institute of Advanced Materials, State-Province Joint Engineering Laboratory of Zeolite Membrane Materials, College of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangxi Normal University, P. R. China) ,  Wu Ting (Institute of Advanced Materials, State-Province Joint Engineering Laboratory of Zeolite Membrane Materials, College of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangxi Normal University, P. R. China) ,  Jiang Qin-Liang (Energy Institute, Jiangxi Academy of Sciences, P. R. China) ,  Zhang Fei (Institute of Advanced Materials, State-Province Joint Engineering Laboratory of Zeolite Membrane Materials, College of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangxi Normal University, P. R. China) ,  Wu Ya-Fen (Research Department, Jiangxi University of Traditional Chinese Medicine, P. R. China) ,  Chen Xiang-Shu (Institute of Advanced Materials, State-Province Joint Engineering Laboratory of Zeolite Membrane Materials, College of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangxi Normal University, P. R. China)
資料名： ACS Omega  (ACS Omega)
巻： 7  号： 8  ページ： 6721-6727  発行年： 2022年 
JST資料番号： W5044A  ISSN： 2470-1343  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N,N,Nトリメチル-1-アダマントアンモニウムヒドロキシド(TMAdaOH)の有機テンプレートによる水熱合成はSSZ-13ゼオライト膜を調製するために最も一般的に使用される方法である。本論文では,合成した膜を加熱塩化ナトリウム中で処理し,空気中の焼成の代わりにTMAdaOHを除去した。膜の表面を加熱NaClにより修飾し,CO_2/CH_4ガス分離選択性を改善した。SSZ-13ゼオライトのチャネルにおけるTMAda+は完全に分解して,処理時間は空気中での焼成と比較して有意に短縮した。加熱NaClと反応したゼオライトの再結晶化は膜のガス分離性能の改善の理由であった。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 再結晶 ,  水熱合成 ,  加工時間 ,  *塩化ナトリウム ,  選択性 ,  *鋳型反応 ,  合成ゼオライト ,  チャネル ,  表面改質 ,  *ガス分離
準シソーラス用語： ゼオライト膜 ,  *SSZ-13 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 合成鉱物  (CD01040K) ,  膜分離  (XD02120Z) ,  吸着剤  (YB03000W)

タイトルに関連する用語 (5件)： ガス分離 ,  塩化ナトリウム ,  SSZ-13 ,  テンプレート ,  表面修飾