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J-GLOBAL ID：202202232871720217   整理番号：22A0802920

窒素ドープナノコーン-垂直グラフェンハイブリッドの成長に対するプラズマ制御パラメータの影響:理論的研究【JST・京大機械翻訳】

Effect of Plasma Control Parameters on the Growth of Nitrogen-Doped Nanocone-Vertical Graphene Hybrid: Theoretical Investigations

著者 (2件)： Sharma Shruti (Department of Applied Physics, Delhi Technological University, Delhi, India) ,  Sharma Suresh C. (Department of Applied Physics, Delhi Technological University, Delhi, India)
資料名： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 42  号： 2  ページ： 413-433  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0836A  ISSN： 0272-4324  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素ドープナノコーン-垂直グラフェンハイブリッド(N-NCN-VG)の成長に関する理論的モデルを開発した。モデルは,境界条件によって解決されるプラズマシース方程式を含んでいる。イオン数密度のプラズマシース方程式変化を用いて,プラズマシースへの距離による電位分布と相関するイオンエネルギーを調べた。モデルをC_2H_2/NH_3プラズマ中のN-NCN-VGの成長と組合せて,プラズマ制御パラメータ,すなわち,全ガス圧(250mTorr-5Torr)と入力プラズマパワー(300~700W)がプラズマ種(中性,正イオン,電子)の反応速度とN-NCN-VGハイブリッドの高さ,厚さ,数密度のような成長特性に及ぼす影響を調べた。さらに,このモデルはナノコーン上の欠陥形成によるVGシートの成長を説明する。理論調査から,全ガス圧が増加して,入力プラズマパワーがナノコーンの高さを減少させるので,ナノコーン表面上の炭素数密度の増加とともにグラフェンシートが増加することが分かった。さらに,N-NCNVGハイブリッドの電界増強係数は入力電力の増加とともに減少する。得られた結果は既存の実験観察と良く一致した。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  *プラズマ ,  電場 ,  反応速度 ,  プラズマさや ,  境界条件 ,  電位分布 ,  カチオン ,  プラズマCVD ,  *ナノ構造 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 理論モデル ,  *ナノコーン ,  イオンエネルギー ,  ガス圧 ,  *窒素ドーピング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 窒素ドープナノコーン-垂直グラフェンハイブリッド ,  PECVD ,  プラズマ制御パラメータ ,  全ガス圧 ,  入力プラズマパワー

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (9件)： 窒素ドープ ,  ナノコーン ,  垂直 ,  グラフェン ,  成長 ,  プラズマ ,  制御パラメータ ,  理論 ,  研究