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J-GLOBAL ID：202202233801456107   整理番号：22A0796182

メチルシクロヘキサンのトルエンへの脱水素に向けた修飾Pt(211)および(311)表面:密度汎関数理論研究【JST・京大機械翻訳】

Modified Pt (211) and (311) surfaces towards the dehydrogenation of methylcyclohexane to toluene: A density functional theory study

著者 (4件)： Onyebuchi Obodo Kingsley (HySA-Infrastructure, North-West University, Faculty of Engineering, Private Bag X6001, Potchefstroom 2520, South Africa) ,  Onyebuchi Obodo Kingsley (National Institute of Theoretical and Computational Sciences, Johannesburg 2000, South Africa) ,  Naphtaly Moro Ouma Cecil (HySA-Infrastructure, North-West University, Faculty of Engineering, Private Bag X6001, Potchefstroom 2520, South Africa) ,  Bessarabov Dmitri (HySA-Infrastructure, North-West University, Faculty of Engineering, Private Bag X6001, Potchefstroom 2520, South Africa)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 584  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 純粋および修飾Pt(211)およびPt(311)ステップ表面のスピン偏極van der Waals補正密度汎関数理論計算をメチルシクロヘキサンのトルエンへの脱水素に対して行った。元のPt(211)とPt(311)ステップ表面のトルエンへのメチルシクロヘキサンの完全脱水素のためのエネルギー反応は,それぞれ0.98eVと0.78eVであった。元のPt(311)ステップ表面はPt(111)表面に比べて低い脱水素エネルギーを有した。含意は,より高い指数表面が活性の全体的増加をもたらすが,ステップ表面はより低い表面積を有することである。本研究は,全脱水素反応エネルギーがPtステップ表面上の表面修飾剤によって低下し,低濃度(n=1,2)でのSi,PおよびSn表面修飾剤がS表面改質剤と比較してPt(211)およびPt(311)ステップ表面上のメチルシクロヘキサンの触媒脱水素を改善することを示した。触媒脱水素反応エネルギー論は,表面修飾剤として適用される表面触媒サイト遮断薬の低濃度を考慮して改善できることが分かった。本研究は,メチルシクロヘキサンの触媒脱水素のための表面修飾剤としてのSi,PおよびSnの適用に関する実験的研究を動機づけた。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 表面 ,  表面積 ,  スズ ,  *白金 ,  スピン分極 ,  *脱水素 ,  *密度汎関数法 ,  脱水素反応 ,  表面改質 ,  含意 ,  アルキルベンゼン
準シソーラス用語： 低濃度 ,  密度汎関数計算 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Ptステップ表面 ,  表面改質剤 ,  メチルシクロヘキサン ,  トルエン ,  脱水素

分類 (2件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  吸着の電子論  (CB12042Y)

物質索引 (2件)： トルエン ,  メチルシクロヘキサン

タイトルに関連する用語 (7件)： メチルシクロヘキサン ,  トルエン ,  脱水素 ,  修飾 ,  Pt ,  密度汎関数理論 ,  研究