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J-GLOBAL ID：202202233943238049   整理番号：22A0727131

YSZ(001)上の急峻な界面を有する高品質エピタキシャルナノ柱状ニオブ膜の作製と特性評価【JST・京大機械翻訳】

Fabrication and Characterization of High-Quality Epitaxial Nanocolumnar Niobium Films with Abrupt Interfaces on YSZ(001)

著者 (12件)： Ramana C. V. (Centre for Advanced Materials Research, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Ramana C. V. (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Makeswaran Nanthakishore (Centre for Advanced Materials Research, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Makeswaran Nanthakishore (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Zade Vishal (Centre for Advanced Materials Research, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Zade Vishal (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Das Debabrata (Centre for Advanced Materials Research, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Das Debabrata (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at El Paso, Texas, United States) ,  Tan Susheng (Department of Electrical and Computer Engineering and Petersen Institute of NanoScience and Engineering, University of Pittsburg, Pennsylvania, United States) ,  Xu Shuozhi (Department of Mechanical Engineering, University of California, California, United States) ,  Beyerlein Irene J. (Department of Mechanical Engineering, University of California, California, United States) ,  Beyerlein Irene J. (Materials Department, University of California, California, United States)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 126  号： 4  ページ： 2098-2107  発行年： 2022年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニオブ(Nb)は,ナノエレクトロニクス,オプトエレクトロニクス,フォトニクス,およびエネルギー関連技術の幅広い技術的応用を有する有望な耐火金属である。しかし,ナノエレクトロニクスとナノフォトニクスの分野をさらに進めるために,優れた構造秩序を有する非常に高品質のNb膜が必要である。酸化物基板上のNbのヘテロエピタクシーの理解において多くの進歩がなされてきたが,特に基板との急峻な界面を示し,極端な条件下で高価な装置および/または処理を必要としない膜を実現するための基本的なメカニズムが課題として残っている。ここでは,簡単で工業的に広く用いられているスパッタ蒸着を用いて,YSZ(001)基板上に高秩序で急峻な界面を有するエピタキシャル,ナノ柱状bccNb膜を安定化させる方法を実証した。500°CでYSZ(001)上に蒸着した90nmのNb膜は歪,エピタキシャル構造を示した。X線回折と透過型電子顕微鏡分析で証明されたように,Nb膜の構造品質は基板支援選択的ナノ結晶化によって駆動される。粒状形態と高い構造品質との組み合わせで,分光偏光解析法と反射率で測定した光学特性は,増強された光学定数を有する高反射Nb膜を示した。表面/界面品質,微細構造,および光学的性質によって,エピタキシャルNb膜は優れた機械的特性を示した。Nbエピタキシャル膜の硬度と弾性率はそれぞれ18と240GPaであり,これはYSZ上の緻密なナノ柱状Nbエピタキシャル膜の成長に主に起因した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *エピタクシー ,  *界面 ,  機械的性質 ,  薄膜 ,  反射率 ,  *ニオブ ,  酸化物 ,  オプトエレクトロニクス ,  透過型電子顕微鏡 ,  ヘテロエピタクシー
準シソーラス用語： フォトニクス ,  ナノエレクトロニクス ,  ナノフォトニクス ,  *ナノコラム ,  エピタキシャル膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： YSZ ,  界面 ,  高品質 ,  エピタキシャル ,  ナノ柱 ,  ニオブ ,  作製 ,  特性評価