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J-GLOBAL ID:202202234337484269   整理番号:22A0924596

GaAs(001)基板上に分子ビームエピタクシーで成長させた自己集合InGaAs量子ドットの構造的,形態学的及び光学的性質に及ぼすビスマス界面活性剤の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of bismuth surfactant on the structural, morphological and optical properties of self-assembled InGaAs quantum dots grown by Molecular Beam Epitaxy on GaAs (001) substrates
著者 (14件):
資料名:
巻: 905  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,分子ビームエピタクシーにより種々の成長温度(435,467および495°C)でGaAs(001)基板上に成長した5単層自己集合InGaAs量子ドット(QDs)の構造的,形態的および光学的特性に及ぼすBi界面活性剤の影響を調べた。ビスマスへの曝露の有無で成長させた2種類のInGaAs QD試料を,原子間力顕微鏡,走査Electron顕微鏡,透過Electron顕微鏡および光ルミネセンス(PL)を用いて研究した。著者らの結果は,Bi媒介成長が,Biなしで成長したInGaAs/GaAs制御試料と比較して,QD PLピーク強度の1.7倍の増強を含むInGaAs QDのいくつかの特性の改善された制御を提供することを実証した。さらに,Bi界面活性剤がQDsのサイズにかなり影響するBiを用いて,InGaAs QDを成長させたとき,約40meVのPLピークエネルギーの赤方偏移も観測された。さらに,Bi界面活性剤で成長させたQDは,PLピークの半値全幅(FWHM)で,より狭い完全Widthの観測によって実証されたように,より高いサイズ均一性を示した。また,Bi界面活性剤と基板温度の両方がInGaAs QDの密度を制御するのに重要な役割を果たすことを示した。QD密度は,Biフラックス下,最低温度43°Cで成長させた試料で8.9×1010cm-2(対照試料)から2.0×1010cm-2に減少した。自己集合QDの性質を制御し,改良するこれらのアプローチは,高い光学効率と低いQD密度を必要とするデバイス応用にとって重要である。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体のルミネセンス 

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