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J-GLOBAL ID:202202234416925847   整理番号:22A0178849

著しく増強されたヒ素除去のための豊富な格子欠陥を有するUiO-66(Zr)由来t-ジルコニア【JST・京大機械翻訳】

UiO-66(Zr)-derived t-zirconia with abundant lattice defect for remarkably enhanced arsenic removal
著者 (12件):
資料名:
巻: 288  号: P2  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0843A  ISSN: 0045-6535  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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酸化ジルコニウム(ZrO_2)はヒ素汚染水の修復に大きな可能性を示す。本研究では,高格子欠陥を有する正方晶酸化ジルコニウム(t-ZrO_2)を,酢酸ナトリウム変調器によるZr-金属-有機骨格(MOF)(UiO-66)の調節によって容易に作製し,水からヒ素を吸着するために調べた。メソ細孔構造と格子欠陥の相乗効果から,t-ZrO_2は,ヒ酸塩(As(V))と亜ヒ酸塩(As(III))の両方に対して極めて高い吸着容量とより速い速度を示した。発熱プロセスにおけるt-ZrO_2に対するAs(V)とAs(III)のLangmuir吸着容量は,それぞれ147.5mg/gと352.1mg/gであり,文献(一般に≦100mg/g)で報告された対照物より著しく優れていた。t-ZrO_2上のAs(III)とAs(V)の両方のより速い吸着速度は,広いpH(3-11)の擬二次モデルによって有利に定義される。さらに,ヒ素は,X線光電子分光法(XPS)スペクトルとFourier変換赤外(FTIR)スペクトル解析によって明らかにされた配位不飽和ジルコニウム原子吸着サイトを占有することにより,Zr-O-As結合を形成することにより,主にt-ZrO_2によって捕獲される。本研究は,ヒ素を捕捉するための超高性能Zr-MOF誘導吸着剤を設計するための新しい戦略を提供した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
重金属とその化合物一般 

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