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J-GLOBAL ID：202202234686866491   整理番号：22A0779335

2-6kAでの高分子材料表面上の線形高電圧ナノ秒真空放電からのプラズマ流【JST・京大機械翻訳】

Plasma Flows From Linear High-Voltage Nanosecond Vacuum Discharges on the Surface of Polymer Materials at 2-6 kA

著者 (4件)： Punanov Ivan F. (Institute of Electrophysics, Ural Branch of the Russian Academy of Sciences, Yekaterinburg, Russia) ,  Emlin Rafail V. (Institute of Electrophysics, Ural Branch of the Russian Academy of Sciences, Yekaterinburg, Russia) ,  Morozov Pavel A. (Institute of Electrophysics, Ural Branch of the Russian Academy of Sciences, Yekaterinburg, Russia) ,  Shcherbakov Yevgeny N. (Institute of Electrophysics, Ural Branch of the Russian Academy of Sciences, Yekaterinburg, Russia)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 50  号： 2  ページ： 550-558  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： PTFE,PMMA,およびPEの表面上の真空フラッシュオーバからの粒子流を,自己絶縁破壊モードにおける60kVナノ秒パルスによって開始し,本研究では,2-6kAの放電電流の範囲で研究した。本研究の特徴は,一定の作動電圧(~60kV)での放電電流の変化である。放電電流はバラスト抵抗器を変えることによって変化する。電圧印加と電流上昇の間の時間遅れは,放電電流の全ての値に対して12nsであった。この遅れは伝導チャネル形成(高電圧段階)の段階に対応し,発電機の作動電圧のみに依存する。外部着火による低電圧実験(約1≦550kV)とは対照的に,プラズマ流特性は破壊の固有特性のみに依存する。提案アプローチの新規性は,全ての測定がパルス適用の高い繰返し速度(30≦100Hz)で行われることである。放電電流の値に対する粒子流推力,質量損失およびイオン成分の占有率の依存性を得た。結果は,イオンビームのシェアがあり,その強度は放電電流に依存しないことを示した。おそらく,これらのイオンはフラッシュオーバプロセスの高電圧段階で生成される。推力は放電チャネルを通過する電荷に直接比例する。粒子流強度の上昇における重要な要因は,より高い電流での放電チャネルの拡大である。いくつかの結果は,高電圧パルスプラズマスラスタの開発にとって実用的関心事である。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  イオンビーム ,  *真空放電 ,  *電圧 ,  電流 ,  *プラズマ流 ,  *放電 ,  推力 ,  抵抗器 ,  パルス ,  フラッシュオーバ ,  占有率
準シソーラス用語： 放電電流 ,  電圧印加 ,  ナノ秒パルス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子材料 ,  線形 ,  高電圧 ,  ナノ秒 ,  真空放電 ,  プラズマ流