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J-GLOBAL ID:202202235334032233   整理番号:22A0986810

酸化物分子ビームエピタクシーにおけるカチオンフラックスキャリブレーションへの正準アプローチ【JST・京大機械翻訳】

Canonical approach to cation flux calibration in oxide molecular-beam epitaxy
著者 (26件):
資料名:
巻:号:ページ: 033802  発行年: 2022年 
JST資料番号: W3690A  ISSN: 2475-9953  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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分子線エピタキシー(MBE)は,それぞれの性能指数によって決定されたように,最良の材料特性を有する複合酸化物のエピタキシャル成長のための金標準である。残念なことに,1つ以上のカチオンが所望の材料に含まれていると,MBE成長はしばしば化学量論制御の困難さによって悩まされる。石英結晶微量天秤に頼る代わりに,個々の分子ビームのフラックスを測定するために,一般的な適用性を欠いている層状成長における標的多カチオン酸化物の高精度または反射高エネルギー電子回折振動を欠いているので,ここでは,カチオンフラックスキャリブレーションのための構成二成分酸化物または金属の膜成長に基づく正準アプローチを記述した。この方法は,絶対精度±1%で各分子ビームのフラックスを較正できる。周期的テーブルの39元素の個々のフラックスを可能にする二元酸化物または金属の成長パラメータを記述する後,著者らは,化学量論的な移動を提供する薄膜成長技術を用いて最もよく報告された輸送特性を有する膜を達成するために,四元強磁性金属[数式:原文を参照]の成長に適用することによって,このアプローチの有効性を実証した。Copyright 2022 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (2件):
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