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J-GLOBAL ID：202202235762832032   整理番号：22A1082432

ナノインプリントスタンプの特徴サイズの調整:ナノインプリントリソグラフィーの柔軟性を高める方法【JST・京大機械翻訳】

Tuning the feature size of nanoimprinting stamps: A method to enhance the flexibility of nanoimprint lithography

著者 (5件)： Golibrzuch Matthias (Chair of Nano and Quantum Sensors, Department of Electrical and Computer Engineering, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany) ,  Maier Thomas L. (Nonequilibrium Chemical Physics, Department of Physics, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany) ,  Feil Moritz J. (Nonequilibrium Chemical Physics, Department of Physics, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany) ,  Krischer Katharina (Nonequilibrium Chemical Physics, Department of Physics, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany) ,  Becherer Markus (Chair of Nano and Quantum Sensors, Department of Electrical and Computer Engineering, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 131  号： 12  ページ： 124301-124301-11  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインプリントリソグラフィーの分野では,大面積インプリントスタンプの作製は,多くの場合,最も時間と資源を消費する段階である。特に研究において,各新しい実験構成のための新しいインプリントスタンプを製造することは,しばしば合理的ではない。したがって,特徴サイズにおける柔軟性の欠如は,プロトタイピングを行い,それらの応用の課題に従って特徴サイズを調整する。これらの制約を克服するために,ナノメータ精度内で調整される既存のインプリントスタンプの特徴のサイズを可能にするインプリントスタンプ再生と調整法を開発した。複製のために,著者らは,まず,調整インプリントスタンプを用いて,二酸化ケイ素上にクロムナノアイランドアレイを作製した。次に,二酸化ケイ素を硬質マスクとしてクロムを用いた反応性イオンエッチングプロセスで異方性エッチングした。インプリントスタンプの形成されたレプリカは,その後,フッ化水素酸による等方性エッチング段階で調整される。この方法は,96%以上の収率でそれらの形状に影響することなく,ナノメートル精度内でナノインプリントスタンプの特徴のサイズを調整することができる。次に,調整したスタンプを用いて,それぞれの同調サイズの金属ナノアイランドアレイを作製した。特徴サイズの影響を評価するため,異なる特徴直径のスタンプを用いて作製した金ナノアイランドアレイのプラズモン共鳴を模範的に研究した。ここでは,試料の測定およびシミュレートしたプラズモン共鳴波長の間に良好な一致が見られた。したがって,同調法により,個々の実験および応用に従って,著者らのナノアイランドアレイの特定のサイズ依存性特性を調整することができた。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 複製 ,  *クロム ,  波長 ,  二酸化ケイ素 ,  同調 ,  プラズマ共鳴 ,  *リソグラフィー ,  RIE【エッチング】 ,  プロトタイピング ,  ナノ構造
準シソーラス用語： フッ化水素酸 ,  サイズ依存性 ,  *ナノインプリント ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  異方性エッチング ,  ナノアイランド ,  *スタンプ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  固体プラズマ  (BM02160W) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： サイズ ,  ナノインプリントリソグラフィー