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J-GLOBAL ID:202202236312164597   整理番号:22A0974055

グラフェン/α-RuCl_3ヘテロ構造におけるナノメータスケールの横方向p-n接合【JST・京大機械翻訳】

Nanometer-Scale Lateral p-n Junctions in Graphene/α-RuCl3 Heterostructures
著者 (23件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: 1946-1953  発行年: 2022年 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ナノメータスケールの横方向p-n接合を生成する能力は二次元(2D)デバイスの次世代に不可欠である。電荷移動ヘテロ構造グラフェン/α-RuCl_3を用いて,グラフェンナノバブル近傍のナノスケールの横方向p-n接合を実現した。ナノバブルp-n接合の電子および光学応答を同時に調べるために,著者らのマルチプロービング実験アプローチは,走査トンネル顕微鏡(STM)および分光法(STS)および散乱型走査近接場光学顕微鏡(s-SNOM)を組み込んだ。STM/STSの結果は,約0.6eVのバンドオフセットを有するp-n接合が~3nmの幅で達成され,秩序108V/mの電場を生じさせることを明らかにした。同時s-SNOM測定は,ナノバブルと表面プラズモンポラリトン(SPP)の相互作用をモデル化するための点散乱体形式を検証した。ab initio密度汎関数理論(DFT)計算は著者らの実験データを確認し,層分離への電荷移動の依存性を明らかにした。本研究は,2D材料におけるp-nナノ接合を生成するための実験的および概念的基礎を提供した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合  ,  原子・分子のクラスタ 
タイトルに関連する用語 (4件):
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