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J-GLOBAL ID:202202237540631364   整理番号:22A0428485

石膏の存在下におけるC_3SおよびAlドープC_3Sの水和【JST・京大機械翻訳】

Hydration of C3S and Al-doped C3S in the presence of gypsum
著者 (5件):
資料名:
巻: 152  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0724A  ISSN: 0008-8846  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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C_3S水和とアルミニウムの役割に対する石膏の影響の完全な理解は達成されていない。ケイ酸三カルシウム(C_3S)及びアルミニウムドープC_3S(Al-C_3S)水和の水和に及ぼす石膏(2.5wt%及び5.0wt%)の影響を調べた。C_3SおよびAl-C_3Sの水和に及ぼす石膏の影響を分析するために,等温熱量測定,熱力学モデリング,XRD,TGAおよび27Alおよび29Si MAS-NMRを実施した。石膏の包含は,硫酸塩イオンとC_3S間の相互作用により,C_3SとAl-C_3Sの両方に対して初期水和(最初の3時間)を遅らせた。対照的に,石膏はC_3SとAl-C_3Sの両方の水和を促進した。エトリンジャイトの生成による細孔溶液のAl3+イオンの除去は石膏によるC_3S水和の増強の背後にある機構ではなく,それは主にC-S-H形態の変化およびイオン強度の増加に起因する。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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セメントの性質・分析 
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