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J-GLOBAL ID：202202237854635329   整理番号：22A0430862

直流マグネトロンスパッタ窒化ニオブ薄膜の特性とプラズマパラメータとの相関【JST・京大機械翻訳】

Correlation between properties of direct current magnetron sputtered thin niobium nitride films and plasma parameters

著者 (6件)： Marquardt Richard (Nanoelectronics, Faculty of Engineering, Kiel University, Kiel 24143, Germany) ,  Cipo Julia (Institute of Experimental and Applied Physics, Kiel University, Kiel 24098, Germany) ,  Schlichting Felix (Institute of Experimental and Applied Physics, Kiel University, Kiel 24098, Germany) ,  Kolhatkar Gitanjali (Nanoelectronics, Faculty of Engineering, Kiel University, Kiel 24143, Germany) ,  Kohlstedt Hermann (Nanoelectronics, Faculty of Engineering, Kiel University, Kiel 24143, Germany) ,  Kersten Holger (Institute of Experimental and Applied Physics, Kiel University, Kiel 24098, Germany)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 742  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO_2上のNbNの超伝導薄膜を,外部蒸着パラメータ,すなわち圧力,ターゲット-基板距離,およびパワーを変えて直流マグネトロンスパッタリングにより周囲温度で調製した。プラズマ特性のような内部堆積パラメータをLangmuirプローブと熱量測定プローブの両方で測定し,プラズマのエネルギーフラックス,電子温度,プラズマポテンシャル,イオン電流密度に関する洞察を与えた。すれすれ入射X線回折と原子間力顕微鏡測定は,薄膜が,超伝導挙動を定義する51Åまでの粒径の立方晶多結晶構造を有することを示した。構造と電気的性質はプラズマパラメータに関連し,膜のイオン電流密度と超伝導特性との間に高い相関を示した。結果は,薄いNbN膜の堆積を最適化し,それらの膜特性を予測するための強力なツールとしてのプラズマキャラクタリゼーションの可能性を証明した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Langmuir探針 ,  最適化 ,  *プラズマ ,  超伝導 ,  電子温度 ,  *薄膜 ,  多結晶 ,  *直流 ,  立方晶系 ,  蒸着 ,  原子間力顕微鏡 ,  超伝導薄膜 ,  イオン電流
準シソーラス用語： すれすれ入射X線回折 ,  DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 窒化ニオブ ,  薄膜 ,  超伝導体 ,  Langmuirプローブ ,  パッシブ熱プローブ ,  原子間力顕微鏡 ,  すれすれ入射X線回折

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 直流 ,  マグネトロンスパッタ ,  窒化ニオブ ,  薄膜 ,  プラズマパラメータ ,  相関