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J-GLOBAL ID：202202237881620776   整理番号：22A0578472

酸素イオンを照射したMoSe_2ナノシートの構造損傷特性【JST・京大機械翻訳】

Structural damage characteristics of MoSe₂ nanosheets irradiated by oxygen ions

著者 (2件)： Song Honglian (School of Mathematics and Physics, Research Center of Computational Physics, Mianyang Teachers’ College, Mianyang 621000, PR China) ,  Yu Xiaofei (Institute of Nuclear Physics and Chemistry, China Academy of Enginerring Physics, Mianyang 621900, PR China)
資料名： Results in Physics  (Results in Physics)
巻： 33  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： W3368A  ISSN： 2211-3797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： モリブデンジセレニド(MoSe_2)は,それらのユニークでエキゾチックな物理的性質のため,最も貴重な二次元遷移金属ジカルコゲン化物(TMD)材料の1つである。その特性は,照射環境において容易に変化し,従って,MoSe_2系デバイスの特性に影響を及ぼす。本研究では,相補的なキャラクタリゼーション技術を用いてサファイア基板上のMoSe_2連続ナノシートの構造と光学バンドギャップ(E_g)に及ぼす酸素イオン照射の影響を論じた。結果は,高フルエンス酸素イオン照射によって誘起されたより多くの格子無秩序と格子損傷が,構造劣化をもたらし,ナノシート中で引張応力を生成したことを示した。平均光吸収速度は減少し,E_gは1.495eVから1.46eVに減少した。結果は,酸素イオン照射によるMoSe_2連続ナノシートの損傷研究を理解するのに役立つであろう。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 構造 ,  物理的性質 ,  二次元 ,  引張応力 ,  イオン照射 ,  材料 ,  吸収速度 ,  キャラクタリゼーション ,  フルエンス ,  光学ギャップ ,  フォトニックバンドギャップ ,  *ナノシート
準シソーラス用語： サファイア基板 ,  *酸素イオン ,  構造損傷 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： イオン照射 ,  MoSe_2連続ナノシート ,  欠陥 ,  構造 ,  光バンドギャップ

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  二次電池  (YB04030K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 酸素イオン ,  ナノシート ,  構造損傷