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J-GLOBAL ID:202202237908683620   整理番号:22A1048703

集積回路製造プロセスのためのクリーンルームにおける空中分子汚染の統合オンサイト収集とオフサイト解析【JST・京大機械翻訳】

Integrated on-site collection and off-site analysis of airborne molecular contamination in cleanrooms for integrated circuit manufacturing processes
著者 (7件):
資料名:
巻: 214  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: C0858A  ISSN: 0360-1323  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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半導体ウエハクリーンルームにおける空中分子汚染物質(AMC)を調べるために,長期オンサイト収集とオフサイト分析方法の両方を実施した。この値はGB36306標準で言及された除去効率に合致しないが,クリーンルームにおける製造空気ユニット(MAU)上の化学フィルタに対するSO_2とNO_2の除去効率は約50%である。SO_2,H_2S,NO,NO_2,NH_3,およびTVOCの除去効率は約76.5%,50.9%,83.5%,99.3%,94.8%,および97.1%であり,ファンフィルタユニット(FFU)を化学フィルタで装備した後に,約76.5%,50.9%,83.5%,99.3%,94.8%,および97.1%であった。AMCsは主にベンゼン,トルエン,エチルベンゼン,キシレン(BTEX),アルカンおよびアルケンを含み,BTEXは総量の77%を占める。クリーンルームのVOC濃度はFFU化学フィルタに適合し,プロセス機器は家庭住宅よりも低く,市販の航空機キャビン空気で見いだされたものよりわずかに高かった。日平均TVOC濃度は温度と負に相関し(R2=0.46,p<0.01),湿度と正相関した(R2=0.26,p<0.01)。日平均NH_3濃度はT(R2=0.19,p<0.05)と負に相関し,RHと正相関した(R2=0.18,p<0.01)。フタル酸ジブチル(DBP)とフタル酸ジオクチル/フタル酸ジエチルヘキシル(DOP/DEHP)を,HEPAフィルタの新しいシーリングジョイントストリップで検出した。フタル酸エステルと有機リン酸塩は新しい濾紙では検出されなかった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
建築環境一般  ,  空気調和一般 

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