文献

J-GLOBAL ID：202202238146145859   整理番号：22A0635893

脱芳香族化と結合したN-(p-ニトロフェニル)プロピオルアミドのラジカル誘起脱ニトロ化 ホスホニル化/トリフルオロメチル化アザスピロ[4.5]-トリエノンへのアクセス【JST・京大機械翻訳】

Radical-induced denitration of N-(p-nitrophenyl)propiolamides coupled with dearomatization: access to phosphonylated/trifluoromethylated azaspiro[4.5]-trienones

著者 (4件)： Mo Kangdong (Institute of Drug Discovery Technology, Ningbo University, Zhejiang, China. [e-mail] [e-mail]) ,  Zhou Xiaocong ,  Wu Ju ,  Zhao Yufen
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 58  号： 9  ページ： 1306-1309  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラジカルipso-環化過程により誘導されたニトロアレーン誘導体の堅牢な脱芳香族脱硝反応を開発し,良好な官能基許容性を有する貴重なホスホン酸またはトリフルオロメチル化アザスピロ[4.5]トリエノンを送達した。これはラジカル様式でニトロアレーンを活性化する便利で強力なアプローチである。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ラジカル ,  芳香族ニトロ化合物 ,  ホスホン酸 ,  環化反応 ,  *脱硝 ,  ロバスト性
準シソーラス用語： *トリフルオロメチル化 ,  *脱芳香族化 ,  官能基許容性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化,還元  (CF02060T) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： 脱芳香族化 ,  フェニル ,  ラジカル ,  誘起 ,  脱ニトロ化 ,  トリフルオロメチル化 ,  トリ ,  エノン ,  アクセス