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J-GLOBAL ID：202202239624227140   整理番号：22A0648111

深共晶溶媒電着におけるNiの核生成と成長機構に及ぼす吸着前TiO_2粒子の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of Pre-Adsorbed TiO₂ Particles on the Nucleation and Growth Mechanism of Ni in Deep Eutectic Solvent Electro-Codeposition

著者 (6件)： Liu Shenggui (School of Mechanical and Engineering, Beijing Institute of Technology, China) ,  Li Chaojiang (School of Mechanical and Engineering, Beijing Institute of Technology, China) ,  Jaber Hossain Md (School of Mechanical and Engineering, Beijing Institute of Technology, China) ,  Yang Yuxin (School of Mechanical and Engineering, Beijing Institute of Technology, China) ,  Zhang Fan (School of Mechanical and Automotive Engineering, Qingdao University of Technology, China) ,  Jin Hui (College of Mechanical and Electronic Engineering, China University of Petroleum (East China), China)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 126  号： 2  ページ： 957-964  発行年： 2022年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電着は,制御可能なナノスケール機能界面を作製する優れた可能性を保持した。しかし,これらのプロセスの重要な特徴は,特に不活性ナノ粒子を含む複合電着プロセスについて,分かりにくいままである。ここでは,不活性粒子の前吸着を電着において詳細に考察した。前吸着不活性粒子の影響下でのニッケルナノ粒子の核形成と成長機構を,塩化コリン-エチレングリコール深共晶溶媒(DES)中で研究した。サイクリックボルタンメトリーの結果は,予め吸着したTiO_2粒子がカソード還元電流を著しく増加させることができる一方,共蒸着TiO_2粒子は還元プロセスを妨げることを示した。クロノアンペロメトリー分析は,DES中の純Ni電着が,高電位での瞬間的核形成と三次元成長の機構に従うが,一方,Ni電着は,TiO_2粒子の前吸着のため,瞬間的核形成モデルから逸脱することを示した。さらに,多相3D核形成と拡散制御成長の古典的モデル記述を考慮して,核形成速度定数と拡散係数のような典型的な速度パラメータを,異なる印加電位の下で研究した。Ni電着の核形成速度定数が予め吸着したTiO_2粒子の存在下で著しく増加することを見出した。これらの知見は,不活性ナノ粒子を含む電着プロセスの理解と完成にとって非常に重要である。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *核形成 ,  拡散係数 ,  *吸着 ,  電位 ,  *電着 ,  *ニッケル ,  三次元 ,  多相 ,  クロノアンペロメトリー ,  サイクリックボルタンメトリー ,  同時蒸着 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： ナノスケール ,  *深共晶溶媒 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 深共晶溶媒 ,  電着 ,  Ni ,  核生成 ,  成長 ,  吸着