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J-GLOBAL ID:202202240363254326   整理番号:22A0396297

負のBias照明ストレス安定性の効果的改善によるプラセオジムドープIn-Sn-Zn-O TFT【JST・京大機械翻訳】

Praseodymium-Doped In-Sn-Zn-O TFTs With Effective Improvement of Negative-Bias Illumination Stress Stability
著者 (5件):
資料名:
巻: 69  号:ページ: 152-155  発行年: 2022年 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,非晶質プラセオジムドープIn-Sn-Zn-O(ITZO-Pr)薄膜トランジスタ(TFTs)を,異なる高周波(RF)マグネトロンスパッタリングパワー下で,改善された負バイアス照明応力(NBIS)安定性で作製した。最適化されたITZO-Pr TFTsは,NBIS(-20V,3600s)の下で,20.9cm2.V-1s-1の電界効果移動度(μ_FE),0.27V/decの急峻なサブ閾値(SS),および小さな閾値電圧シフト(ΔV_th=-2.12V)を示した。すべてのPrドープデバイスは,ITZO TFTと比較して1桁以上の光応答性の減少を示した。さらに,Prドーピングの後,光電子の緩和過程は変化し,次に,光誘起電子緩和の活性化エネルギー(E_a)は減少し,これはITZO TFTsのNBIS安定性を効果的に増強した。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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