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J-GLOBAL ID：202202240699273724   整理番号：22A0231920

ケタール脱保護プロセスを監視するためのin situ分光ツールの利用【JST・京大機械翻訳】

Utilizing in situ spectroscopic tools to monitor ketal deprotection processes

著者 (8件)： Ralbovsky Nicole M. (Analytical Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  Lomont Justin P. (Analytical Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  Ruccolo Serge (Process Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  Konietzko Janelle (Process Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  McHugh Patrick M. (Process Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  Wang Sheng-Ching (Process Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  Mangion Ian (Analytical Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA) ,  Smith Joseph P. (Analytical Research & Development, MRL, Merck & Co., Inc., West Point, PA 19486, USA)
資料名： International Journal of Pharmaceutics  (International Journal of Pharmaceutics)
巻： 611  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0285B  ISSN： 0378-5173  CODEN： IJPHD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 合成時に官能基を遮蔽するための保護基の使用を多くの反応と有機合成を通して採用した。保護基の役割は,反応収率と選択性の増加と同様に,反応の成功に重要である。保護グループの追加を研究するために多くの研究がなされてきたが,保護グループの除去はちょうど重要であり,リアルタイムで保護グループの除去を監視するための文献の中で使用された方法の欠如がある。本研究では,ケタール保護基の除去,又は脱保護のプロセスを調べた。プロセス分析技術ツールを小分子モデル化合物の脱保護反応のin situ分析に組み込んだ。特に,Raman分光法およびFourier変換赤外分光法は,特性バンドが,反応物の減少および時間にわたる予想生成物の増加を追跡するために使用できることを示した。著者らの知る限り,これは実時間でケタール脱保護反応をモニターするのに用いるプロセス分析技術の最初の報告である。この情報は,医薬品関連脱保護プロセスと下流反応の理解と最適化のために,将来,資本化できる。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  *アセタール ,  *脱保護基 ,  小分子 ,  Raman分光法 ,  モデル化合物 ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： 官能基 ,  保護基 ,  工程分析技術 ,  有機合成 ,  反応物 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： プロセス解析技術 ,  PAT ,  ケタール脱保護 ,  反応モニタリング ,  in situ分析 ,  振動分光法

分類 (1件)： 脂肪族アルデヒド  (CF03180F)

タイトルに関連する用語 (4件)： ケタール ,  プロセス ,  分光 ,  ツール