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J-GLOBAL ID:202202241732327262   整理番号:22A1094638

DC電場支援ホットプレスによる連続傾斜Si_3N_4セラミックのin situ製造【JST・京大機械翻訳】

In situ fabrication of continuously graded Si3N4 ceramics via DC field-assisted hot pressing
著者 (7件):
資料名:
巻: 213  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0915A  ISSN: 1359-6462  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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Si_3N_4セラミックの液相ホットプレスに及ぼす種々のDC電場(0~167V/cm)の影響を調べた。DC場の適用はカソード近くのSi_3N_4のα→β相変態を促進したが,アノード近傍では阻害した。結果として,連続的に傾斜したミクロ組織と機械的性質を有するSi_3N_4セラミックを,均一な原料粉末からその場製造した。Mg2+とY3+イオンのDC場駆動移動を記録したが,傾斜相転移現象はPeltier効果にリンクし,カソードでの追加の加熱とアノードでの冷却をもたらした。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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セラミック・磁器の性質 
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