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J-GLOBAL ID：202202243816821889   整理番号：22A0182584

有機汚染物の分解のための可視光駆動g-C_3N_4/Bi_4NbO_8X(XCl,Br)ヘテロ接合光触媒【JST・京大機械翻訳】

Visible light driven g-C₃N₄/Bi₄NbO₈X (XCl, Br) heterojunction photocatalyst for the degradation of organic pollutants

著者 (8件)： Sharma Anjli (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China) ,  Kanth Sanjeev Kumar (Center for Nanocharacterization, Korea Research Institute of Standards and Science, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  Xu Shishi (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China) ,  Han Ni (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China) ,  Zhu Lei (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China) ,  Fan Lele (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China) ,  Liu Chao (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China) ,  Zhang Qinfang (School of Materials Science and Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224051, PR China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 895  号： P2  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高電位可視光活性g-C_3N_4/Bi_4NbO_8X(Cl,Br)ヘテロ接合光触媒を,Bi_4NbO_8X(Cl,Br)とg-C_3N_4間のカップリングの界面で構築した。ヘテロ接合g-C_3N_4/Bi_4NbO_8Br-20%(CNBNB-3),g-C_3N_4/Bi_4NbO_8Cl-20%(CNBNC-3),および元の材料g-C_3N_4(CN),Bi_4NbO_8ClおよびBi_4NbO_8Brのバンドギャップ値は,それぞれ2.68eV,2.69eVおよび2.74eV,2.46eVおよび2.48eVであった。最適化したCNBNC-3とCNBNB-3光触媒の分解性能はローダミンBの元の材料よりも97%と84%の優れた除去効率を示した。合成した光触媒は,5回の連続サイクル後に良好なリサイクル安定性を維持し,潜在的に汚染物質分解が可能であった。電気化学インピーダンスと光ルミネセンス分光法は,光触媒の光生成電荷キャリアの移動と分離効率がブーストされ,一方,再結合速度が減少することを明らかにした。光触媒反応機構も,スーパーオキシド・・・・・OHCopyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ヘテロ接合 ,  界面 ,  最適化 ,  光生成 ,  光ルミネセンス ,  *汚染物質 ,  超酸化物 ,  *可視光 ,  分離効率 ,  光触媒反応 ,  *光触媒 ,  バンドギャップ ,  電気化学インピーダンス ,  芳香族アミン ,  芳香族カルボン酸 ,  酸素複素環化合物 ,  キノイド化合物 ,  インモニウム ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： 電荷キャリア , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Silen-Aurivillius ,  g-C_3N_4/Bi_4NbO_8X(Cl) ,  Br)ヘテロ接合 ,  光触媒分解 ,  可視光活性光触媒

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (1件)： ローダミンB

タイトルに関連する用語 (5件)： 汚染物 ,  分解 ,  可視光 ,  Br ,  ヘテロ接合光触媒