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J-GLOBAL ID：202202245079622882   整理番号：22A0447527

ペルヒドロポリシラザンから機能性光学膜を設計するための強力なパルスUV光処理:従来の熱処理プロセスの代替【JST・京大機械翻訳】

Intense pulsed UV light treatment to design functional optical films from perhydropolysilazane: an alternative to conventional heat treatment processes

著者 (8件)： Baek Jeong Ju (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Park Sung Man (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Kim Yeong Rang (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Chang Ki Cheol (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Heo Youn-Jung (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Bae Geun Yeol (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Choi Kyung Ho (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea) ,  Shin Gyojic (Green and Sustainable Materials R&D Department, Korea Institute of Industrial Technology, Cheonan-Si, South Korea)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 57  号： 1  ページ： 254-273  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ペルヒドロポリシラザン(PHPS)は溶液処理により薄い層を形成し,優れた耐化学性,接着性および光学的性質を有する緻密なガラス様シリカ(SiO_x)に変換する。しかし,PHPSのSiO_xへの変換のための熱処理法は,機能性高分子膜への応用には十分でない。本研究では,著者らのグループは,空気環境における低温で強いパルスUV光(IPL)による照射を用いた代替プロセスを開発した。種々の曝露エネルギー(4.2,8.4および12.6Jcm-2)を用いてPHPS由来SiO_x層を調製し,それらの化学的挙動,組成,転化率および屈折率を調べた。得られたSiO_x層は熱処理されたシリカ層(600°C)と同様の100%の転化率と非晶質SiO_2(1.45)と同一の屈折率(RI)値を示した。さらに,ポリエチレンテレフタレート(PET)膜上の最終SiO_x薄層(160nm±0.7nm)は,750gの負荷で90.7%の透過率と4Hの鉛筆硬度を有した。SiO_x層の平均硬度と弾性率は,それぞれ3.25GPaと27.98GPaであり,ロールツーロール真空蒸着で形成されたSiO_x層の値と同様であった。さらに,最終SiO_x薄層は100K曲げサイクル後に亀裂を示さなかった。全体として,IPLプロセスは,良好な硬度,弾性率,および透明性を有する柔軟な高分子膜上のPHPSをSiO_x層に変換するのに有効であることを立証した。それは,光学フィルム産業のための機能材料を作り出すために,大規模なロールツーロール製造プロセスに適用することができた。グラフ抽象;Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2021 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ガラス ,  亀裂 ,  屈折率 ,  *紫外線 ,  真空蒸着 ,  弾性係数 ,  低温 ,  薄膜 ,  二酸化ケイ素 ,  *パルス ,  透過率 ,  転化率 ,  高分子膜 ,  生産工程
準シソーラス用語： ロール・ツー・ロール方式 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： ペルヒドロポリシラザン ,  機能性 ,  光学膜 ,  設計 ,  パルス ,  UV光 ,  熱処理プロセス ,  代替