文献

J-GLOBAL ID：202202245377654462   整理番号：22A1173220

MoO_3薄膜のフォトクロミックおよび親水性自己洗浄性【JST・京大機械翻訳】

Photochromic and hydrophilic self-cleaning nature of MoO₃ thin films

著者 (3件)： Sreelakshmi V. R. (Department of Physics, Kongunadu Arts and Science College, Coimbatore, Tamilnadu, India) ,  Anu Kaliani A. (Department of Physics, Kongunadu Arts and Science College, Coimbatore, Tamilnadu, India) ,  Jithin M. (Department of Physics, KR’S Sree Narayana College, Valanchery, Kerala, India)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 33  号： 12  ページ： 9525-9537  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MoO_3薄膜をFTO基板上に厚さ300,400および500nmの熱蒸着法により合成した。熱蒸着MoO_3薄膜の可逆的フォトクロミック(太陽光照射下)と親水性特性を研究した。薄膜をXPS,XRD,およびAFMによって特性評価した。作製した薄膜の表面は,膜を60分間太陽光照射に曝すと透明白色から青色に変わり,透過率の低下も観測された。薄膜の漂白は300°Cで酸素雰囲気中に薄膜を配置し,次にそれを暗に72時間置くことによって起こることが注目された。太陽光照射と漂白の作用による透過スペクトルの対応する変化をUV-Vis分光法で記録した。薄膜の透過スペクトルは,調製した薄膜が顕著な可逆性を有する優れたフォトクロミック特性を有することを確認した。薄膜の表面濡れ性特性を水接触角測定を用いて研究した。厚さ300nmのMoO_3薄膜は良好なフォトクロミックと親水性を示した。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2021 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  真空蒸着 ,  接触角 ,  濡れ ,  *薄膜 ,  特性 ,  X線回折分析 ,  *親水性 ,  漂白 ,  スペクトル ,  太陽光 ,  スペクトロスコピー ,  透過率 ,  フォトクロミズム
準シソーラス用語： 透過スペクトル ,  酸素雰囲気 ,  水接触角 ,  *フォトクロミック ,  表面濡れ性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  フォトクロミック ,  親水性 ,  自己洗浄