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J-GLOBAL ID：202202245685344384   整理番号：22A0795482

閉じ込められた平板背後の後流の数値研究【JST・京大機械翻訳】

Numerical investigations of the wake behind a confined flat plate

著者 (4件)： Aljubaili D. (Department of Mechanical Engineering, The University of Melbourne, Melbourne VIC 3010, Australia) ,  Chan L. (Department of Mechanical Engineering, The University of Melbourne, Melbourne VIC 3010, Australia) ,  Lu W. (Department of Mechanical Engineering, The University of Melbourne, Melbourne VIC 3010, Australia) ,  Ooi A. (Department of Mechanical Engineering, The University of Melbourne, Melbourne VIC 3010, Australia)
資料名： International Journal of Heat and Fluid Flow  (International Journal of Heat and Fluid Flow)
巻： 94  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0599B  ISSN： 0142-727X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 閉じ込め平板周りの二次元流れをスペクトル要素コードNek5000でシミュレートした。直接数値シミュレーションを,低Reynolds数Re(10≦Re≦200)と種々の閉塞比β(0.1≦β≦0.9の間)で行い,以前に報告された拘束二次元円筒流と比較した。閉じ込められた平板上の流れに対して4つの異なる流れ領域を観測した。第一は,渦がチャネルの中心線に沿って均一に分布する定常対称後流である。第2は瞬間的な流れ場を平均化する非定常対称領域であり,後流プロファイルは対称である。第3は,流れが定常であるが,後流内の渦がチャネル壁の1つに向かって歪む非対称定常後流である。最初の3つは,円筒上の拘束流について報告された。しかし,非定常非対称後流として定義される4番目の流れ領域を,β=0.8の平板に対して見出した。この流れ領域は,拘束された円筒上の拘束流に関する以前の研究では報告されなかった。本論文では,線形安定性解析を用いた解析も報告し,本論文で報告した傾向を確認した。また,平均抗力係数およびStrouhal数のような流体力学的力に及ぼす平板の後流に及ぼす閉込めの影響を,Reおよびβの同じ範囲について実証し,拘束円筒上の流れと比較した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *伴流 ,  円柱 ,  抗力係数 ,  相互作用 ,  対称性 ,  二次元流 ,  *平板 ,  流体力学 ,  流動 ,  *研究 ,  非対称性 ,  閉塞 ,  二次元 ,  Strouhal数 ,  流れ場
準シソーラス用語： *数値研究 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 閉じ込められた流れ ,  平板 ,  円柱 ,  渦相互作用 ,  渦放出の抑制

分類 (1件)： 物体の周りの流れ  (BC02040N)

タイトルに関連する用語 (4件)： 平板 ,  後流 ,  数値 ,  研究