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J-GLOBAL ID：202202245754845425   整理番号：22A1161942

近接場放射熱伝達整流のグラフェンベース増強【JST・京大機械翻訳】

Graphene-based enhancement of near-field radiative-heat-transfer rectification

著者 (3件)： Landrieux Simon (Universite Paris-Saclay, Institut d’Optique Graduate School, CNRS, Laboratoire Charles Fabry, 91127 Palaiseau, France) ,  Ben-Abdallah Philippe (Universite Paris-Saclay, Institut d’Optique Graduate School, CNRS, Laboratoire Charles Fabry, 91127 Palaiseau, France) ,  Messina Riccardo (Universite Paris-Saclay, Institut d’Optique Graduate School, CNRS, Laboratoire Charles Fabry, 91127 Palaiseau, France)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 120  号： 14  ページ： 143502-143502-6  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極性と金属-絶縁体-遷移材料からなる2つの基板間の近接場相互作用に基づく熱デバイスを示した。光学的性質の温度依存性の結果として,このデバイスは熱整流器として作用し,2つの温度を逆転させると熱流束の強い非対称性を意味した。両基板をグラフェンシートで被覆することにより,整流係数の著しい増強を示した。距離依存性と共にフラックススペクトル特性の調査により,この増強がグラフェンシートの存在による静電領域における分離距離に関して熱流束のべき乗則依存性の変化と関連することを証明した。著者らの結果は,ナノスケール熱管理の領域におけるグラフェン系ハイブリッド構造の有望な役割を強調する。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光学的性質 ,  相互作用 ,  *放射熱伝達 ,  熱管理 ,  熱流束 ,  温度依存性 ,  非対称性 ,  *整流 ,  *近接場 ,  *グラフェン ,  複合構造 ,  絶縁体
準シソーラス用語： ナノスケール ,  べき乗則 ,  熱整流 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 近接場 ,  放射熱伝達 ,  整流 ,  グラフェン ,  増強