文献
J-GLOBAL ID:202202247984267944   整理番号:22A0418951

SiC単結晶内の電気伝導キャリアの評価および制御技術開発

著者 (1件):
資料名:
号: 39  ページ: 78-79  発行年: 2022年01月 
JST資料番号: L3037A  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス材料 
引用文献 (3件):
  • “Surface recombination velocities for 4H-SiC: temperature dependence and difference in conductivity type at several crystal faces” Masashi Kato, Zhang Xinchi, Kimihiro Kohama, Shuhei Fukaya, Masaya Ichimura, Journal of Applied Physics 127, 195702 (2020).
  • “Observation of carrier lifetime distribution in 4H-SiC thick epilayers using microscopic time-resolved free carrier absorption system” K. Nagaya, T. Hirayama, T. Tawara, K. Murata, H. Tsuchida, A. Miyasaka, K. Kojima, T. Kato, H. Okumura, M. Kato, Journal of Applied Physics 128, 105702 (2020).
  • “Highly efficient 3C-SiC photocathodes with texture structures formed by electrochemical etching” Masashi Kato, Tomohiro Ambe, Applied Physics Express 13, 026506 (2020).

前のページに戻る