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J-GLOBAL ID:202202248207535819   整理番号:22A0166870

次世代高効率Si太陽電池を可能にする熱的に安定なポリSiトンネル接合【JST・京大機械翻訳】

Thermally stable poly-Si tunnel junctions enabling next-generation high-efficiency Si solar cells
著者 (8件):
資料名:
巻: 30  号:ページ: 85-95  発行年: 2022年 
JST資料番号: W0463A  ISSN: 1062-7995  CODEN: PPHOED  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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シリコンウェハを不動態化し,選択的に正孔を抽出し,スクリーン印刷金属接触の高温焼成プロセスに適合するために,n+-poly-Si/p+-poly-Si/SiO_xとn~+-ポリ-Si/SiO_x/p~+-ポリ-Si/SiO_xである熱的に安定なポリシリコン(poly-Si)ベースのトンネル接合(TJ)を実証した。n+-poly-Siとp+-poly-Si層間の付加的界面酸化物は,熱安定性を増強し,隣接ポリSi層間のドーパント相互拡散を緩和するための障壁層として作用し,接触抵抗を大きく増大しなかった。TJの熱的安定性を,非金属化試料の高温焼成(740°C~840°C)後のTJ再結合電流密度J_0と有効接触抵抗ρ_cの分析により調査した。効率ポテンシャル計算により2つの異なるTJ応用を評価した。(1)TJを2端子タンデムセルのための不動態化接触Siボトムセルの前面に印加すると,Siボトムセルに対する9.9%の計算された付加効率は,界面酸化物の包含により達成できる;(2)p+-poly-Si層上の従来の金属スクリーン印刷を可能にするため,TJを単一接合Si太陽電池の背面に適用し,1Sun条件で23.6%の計算された電池効率ポテンシャルを与えた。このような配置に対して,隣接ポリSi層間の界面酸化物が存在しない場合,電池効率ポテンシャルはピーク焼成温度と共に改善した。要約すれば,既存の工業的シリコン太陽電池製造プロセスと完全に互換性のある2つの前述の応用に対する熱的に安定な正孔抽出TJの開発に成功した。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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太陽電池 

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