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J-GLOBAL ID：202202249596044408   整理番号：22A0904696

オキシアセチレン条件下での不均一積層HfB_2-SiC/Tiセラミックの包括的な酸化機構【JST・京大機械翻訳】

Comprehensive oxidation mechanisms of heterogeneous laminated HfB₂-SiC/Ti ceramics under oxyacetylene conditions

著者 (6件)： Bai Yuhang (School of Material Science and Engineering, Xi’an University of Science and Technology, Xi’an, Shaanxi 710054, China) ,  Bai Yuhang (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, Shaanxi 710072, China) ,  Wang Peipei (School of Material Science and Engineering, Xi’an University of Science and Technology, Xi’an, Shaanxi 710054, China) ,  Zhang Baoxi (School of Mechanics, Civil Engineering and Architecture, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, Shaanxi 710072, China) ,  Du Huiling (School of Material Science and Engineering, Xi’an University of Science and Technology, Xi’an, Shaanxi 710054, China) ,  Cheng Laifei (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an, Shaanxi 710072, China)
資料名： Journal of the European Ceramic Society  (Journal of the European Ceramic Society)
巻： 42  号： 7  ページ： 3107-3117  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0801B  ISSN： 0955-2219  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テープキャスティングと放電プラズマ焼結により作製した積層HfB_2-SiC/Tiセラミックを,2040°Cでのオキシアセチレントーチ試験で評価した。二元HfB_2-SiC系の揮発性図を,試料のアブレーション挙動を調べるために,上部表面の詳細なアブレーション微細構造と共に確立した。さらに,積層体の質量(8.93mg/s)と線形アブレーション速度(1.22μm/s)は,側面表面の緻密なSiO_2被覆によるTi中間層の強い酸化保護に起因し,界面での酸化重量損失と剥離の発生を遅らせた。対応する酸化挙動を提案した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *酸化 ,  *セラミック ,  *チタン ,  被覆 ,  *炭化ケイ素 ,  重量損失 ,  *反応機構 ,  揮発性 ,  アブレーション ,  放電プラズマ焼結
準シソーラス用語： テープ成形 ,  *酸化機構 ,  酸化挙動 ,  酸化保護 ,  一酸化ケイ素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： UHTCs ,  積層セラミック ,  アブレーション ,  酸化

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 不均一 ,  SiC ,  Ti ,  セラミック ,  酸化機構