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J-GLOBAL ID：202202250176174195   整理番号：22A1082411

スピントロニクス応用のためのβ-タングステン膜における成長依存構造秩序化と安定性【JST・京大機械翻訳】

Growth-dependent structural ordering and stability in β-tungsten films for spintronic applications

著者 (7件)： Chattaraj Ananya (Department of Physics, School of Natural Sciences, Shiv Nadar University, NH-91, Tehsil Dadri, Gautam Buddha Nagar, Uttar Pradesh 201 314, India) ,  Asirvatham Joshua (Department of Physics, School of Natural Sciences, Shiv Nadar University, NH-91, Tehsil Dadri, Gautam Buddha Nagar, Uttar Pradesh 201 314, India) ,  Das Gangadhar (Chemistry and Physics of Materials Unit, Jawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific Research, Jakkur, Bangalore 560064, India) ,  Manna Gouranga (Chemistry and Physics of Materials Unit, Jawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific Research, Jakkur, Bangalore 560064, India) ,  Saha Pinku (Chemistry and Physics of Materials Unit, Jawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific Research, Jakkur, Bangalore 560064, India) ,  Kumar Vijay (Center for Informatics, School of Natural Sciences, Shiv Nadar University, NH91, Tehsil Dadri, Gautam Buddha Nagar, Uttar Pradesh 201 314, India) ,  Kanjilal Aloke (Department of Physics, School of Natural Sciences, Shiv Nadar University, NH-91, Tehsil Dadri, Gautam Buddha Nagar, Uttar Pradesh 201 314, India)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 131  号： 12  ページ： 125301-125301-7  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： タングステンのβ相は,他の元素固体および大きなスピン-軌道トルクと比較して,そのより高いスピンHall角のため,スピントロニクス応用に対して大きな興味を引きつけたが,この相の安定性は,主に膜厚,温度,および全体的成長条件に基づく文献にある。スパッタ蒸着による膜の成長は,現在のスピントロニクス技術との適合性により,β-Wを達成するための有望な技術として浮上している。ここでは,圧力,パワー,および堆積時間のような一連の堆積パラメータを変えて,室温で約180nmの厚さまで安定なβ-W膜を成長するためのdcマグネトロンスパッタリングの効率的な能力を実証し,種々の基礎となる機構を議論した。これらの結果から,成長β-W膜の堆積パラメータの最適化セットを示した。β-Wの原子構造における酸素の影響の明確な理解を,膜厚を変えることによって得た。これはab initio分子動力学(MD)シミュレーションから確認され,そこでは原子構造が酸素ドーピング濃度により影響される。酸素の制御されたドーピングによって安定な多結晶β相を達成できた。さらに,酸素のドーピングによるαからβへの相転移もMDシミュレーションで明らかである。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 安定性 ,  最適化 ,  シミュレーション ,  相転移 ,  酸素 ,  *タングステン ,  原子構造 ,  多結晶 ,  ドーピング ,  β相 ,  膜厚 ,  スパッタ蒸着 ,  分子動力学 ,  *スピントロニクス
準シソーラス用語： 分子動力学シミュレーション , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： スピントロニクス ,  応用 ,  タングステン ,  成長 ,  秩序化 ,  安定性