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J-GLOBAL ID：202202250204250600   整理番号：22A0973129

半結晶性形状記憶高分子を用いた界面接着の変調【JST・京大機械翻訳】

Modulation of Interfacial Adhesion Using Semicrystalline Shape-Memory Polymers

著者 (6件)： Kim Soyoun (Department of Chemical Engineering, University of Rochester, United States) ,  Lakshmanan Sanjay (Department of Mechanical Engineering, University of Rochester, United States) ,  Li Jinhai (Department of Chemical Engineering, University of Rochester, United States) ,  Anthamatten Mitchell (Department of Chemical Engineering, University of Rochester, United States) ,  Lambropoulos John (Department of Mechanical Engineering, University of Rochester, United States) ,  Shestopalov Alexander A. (Department of Chemical Engineering, University of Rochester, United States)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 38  号： 11  ページ： 3607-3616  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半結晶性形状記憶エラストマを,エラストマとガラス基板の間の接着相互作用を制御するために変形可能な幾何学的特徴に成形した。成形された特徴の変形と相挙動の機械的および熱的制御によって,界面接触面積と界面付着力を制御することができる。結果は,弾性エネルギーが変形された特徴の半結晶状態に保存され,魅力的な界面力を破壊し,エラストマからガラス基板を自動的に分離できることを示した。著者らの知見は,形状記憶エラストマが,インクピックアップと移動中の接着力と剥離力学を制御するために,種々の接触印刷応用に適用できることを示唆する。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  基板 ,  *接着 ,  相互作用 ,  変形 ,  印刷 ,  ゴム ,  インク ,  面積 ,  電気装置部品 ,  *形状記憶効果 ,  付着力 ,  *準結晶
準シソーラス用語： 接触面積 ,  ガラス基板 ,  *形状記憶ポリマ ,  弾性エネルギー ,  *界面接着 ,  エラストマ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  層流,乱流,境界層  (BC02030C)

タイトルに関連する用語 (4件)： 半結晶性 ,  形状記憶高分子 ,  界面接着 ,  変調