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J-GLOBAL ID：202202251027522731   整理番号：22A1154018

単一モード領域を超えた超低損失シリコンフォトニクス【JST・京大機械翻訳】

Ultralow-Loss Silicon Photonics beyond the Singlemode Regime

著者 (12件)： Zhang Long (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Hong Shihan (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Wang Yi (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Yan Hao (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Xie Yiwei (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Chen Tangnan (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Zhang Ming (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Yu Zejie (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Shi Yaocheng (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Liu Liu (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Dai Daoxin (State Key Laboratory for Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Zijingang Campus, Hangzhou, 310058, China) ,  Dai Daoxin (Ningbo Research Institute, Zhejiang University, Ningbo, 315100, China)
資料名： Laser & Photonics Reviews  (Laser & Photonics Reviews)
巻： 16  号： 4  ページ： e2100292  発行年： 2022年 
JST資料番号： W2334A  ISSN： 1863-8880  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単一モード領域を超えたシリコンフォトニクスを,特別な製作プロセスなしでも,基本モードのための超低損失導波路伝搬を可能にするために適用した。ここでは,標準220nm-SOI(シリコンオンインシュレータ)多重投影ウエハーを用いてマイクロレーストラック共振器を作製し,0.065dBcm-1の超低伝搬損失に対応する1.02×107の記録高固有品質因子を示し,これは同じチップ上の通常の450nm幅導波路よりも約20倍少ない。次に,シリコン上の最先端のマイクロ波フォトニックフィルタを,20.6MHzの超狭帯域3dB帯域幅と,約20GHzの同調範囲によって,初めて実現した。100cm長の遅延線をコンパクトな90°Euler曲線曲がりで実証し,測定した平均伝搬損失は約0.14dBcm-1であった。単一モード領域を超えたシリコンフォトニクスの概念は,高い伝搬損失の問題を解決するのを助ける。特に,それは,大規模シリコンフォトニック集積を実現するための道を拓く,強化された性能を有するシリコンフォトニックデバイスを可能にする。この概念は,窒化ケイ素やニオブ酸リチウムのような他の材料プラットフォームにも拡張できる。また,これは,非線形フォトニクス,大規模フォトニック集積,量子フォトニクス,マイクロ波フォトニクスなど様々な応用に対して多数の新しい機会をもたらした。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 共振器 ,  損失 ,  *ケイ素 ,  遅延線 ,  多重化 ,  ウエハ【IC】 ,  *オプトエレクトロニクス ,  窒化ケイ素 ,  光学素子 ,  集積 ,  狭帯域 ,  *単一モード ,  導波路 ,  プラットフォーム【通信】
準シソーラス用語： *フォトニクス ,  フォトニックデバイス ,  *シリコンフォトニクス ,  伝搬損失 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 遅延線 ,  高Q共振器 ,  低損失導波路 ,  マイクロ波フィルタ ,  シリコンフォトニクス

分類 (1件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 単一モード ,  低損失 ,  シリコンフォトニクス