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J-GLOBAL ID:202202251161894096   整理番号:22A0478058

面内GeSnナノワイヤ成長のためのSn含有前駆体の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation of Sn-containing precursors for in-plane GeSn nanowire growth
著者 (8件):
資料名:
巻: 899  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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GeSnナノワイヤ(NWs)の成長のためのSn触媒ナノ粒子(NP)の形成は,適切なSn含有前駆体の同定を必要とする。本研究では,Sn,SnO_2および酸化インジウムスズ(ITO)薄膜ならびにSnO_2ナノ粒子のような種々のSn含有前駆体を調べた。SnとSnO_2薄膜はNWsを生成しなかった。これは,触媒密度,ならびに非晶質層上の濡れがGeSn NWの成長に重要な役割を果たすことを明らかにした。逆に,Geナノ結晶(NC)をc-Si基板上に蒸着したITO薄膜から成長させた。結晶性Si基板上に界面SiO_x層が存在しないとき,良好な結晶性が得られた。最後に,SnO_2 NPを用いてGeSn NWを成長させた。それらの形態はアニーリング環境によって強く影響を受ける:異なる圧力または水素プラズマを有する水素雰囲気,後者が最良の結果を与える。GeSn NWのナノ構造と組成を詳細に調べた。これらの結果は,いくつかのタイプのSn含有材料内で面内Geナノ構造を成長させる道を開く。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  金属の結晶構造 
タイトルに関連する用語 (5件):
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