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J-GLOBAL ID：202202251329815817   整理番号：22A0230709

アルゴンイオンスパッタ低密度ポリエチレンの表面パターニング【JST・京大機械翻訳】

Surface patterning of argon ion sputtered low density polyethylene

著者 (5件)： Kumari Rimpi (Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India) ,  Gupta Divya (Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India) ,  Sharma Annu (Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India) ,  Singhal Rahul (Department of Physics, Malaviya National Institute of Technology, Jaipur 302017, India) ,  Aggarwal Sanjeev (Department of Physics, Kurukshetra University, Kurukshetra 136119, India)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 309  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,低密度ポリエチレン(LDPE)高分子膜の表面パターニングを100keVの斜めアルゴンイオン照射を利用して調べた。波形パターンは,最低入射角,すなわち30°で進展し,次に,40°と50°で,より高い入射角で顕著で周期的になった。興味深いことに,これらのパターンの波長と振幅は入射アルゴンイオンの角度の増加と共に低下することが分かった。表面の粗さは入射角と共に非線形挙動を示した。観察された形態変化は,デコンボリューションRamanスペクトルから計算した無秩序パラメータとさらに相関していた。これらのパターン化高分子基板は,細胞増殖,生体工学,表面増強Raman散乱センサなどのための基質調製に有用である。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Ramanスペクトル ,  波長 ,  基質 ,  デコンボリューション ,  高分子 ,  生体工学 ,  細胞増殖 ,  秩序パラメータ ,  センサ ,  表面増強Raman散乱 ,  *パターン形成 ,  原子間力顕微鏡 ,  入射角
準シソーラス用語： 非線形挙動 ,  高分子基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 表面粗さ ,  高分子 ,  原子間力顕微鏡 ,  スパッタリング

分類 (2件)： 表面処理  (YH04112X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 低密度ポリエチレン ,  パターニング