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J-GLOBAL ID：202202251468621906   整理番号：22A0799851

廃水修復のための有望な光触媒としてのパルス電着による疎水性ZnOナノ構造ニッケルマイクロチューブの容易な製造【JST・京大機械翻訳】

Facile fabrication of hydrophobic ZnO nanostructured nickel microtubes through pulse electrodeposition as promising photocatalyst for wastewater remediation

著者 (4件)： Biswal Hrudaya Jyoti (School of Mechanical Sciences, IIT Bhubaneswar, Argul, Khurda, Odisha, India) ,  Srivastava Tushar (School of Mechanical Sciences, IIT Bhubaneswar, Argul, Khurda, Odisha, India) ,  Vundavilli Pandu R. (School of Mechanical Sciences, IIT Bhubaneswar, Argul, Khurda, Odisha, India) ,  Gupta Ankur (Department of Mechanical Engineering, IIT Jodhpur, Jodhpur, Rajasthan, India)
資料名： Journal of Manufacturing Processes  (Journal of Manufacturing Processes)
巻： 75  ページ： 538-551  発行年： 2022年 
JST資料番号： W3312A  ISSN： 1526-6125  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,ニッケル管状薄膜上にZnOナノ構造を作製するための作製技術としてのパルス電着を調べ,廃水中の有害染料の分解のための触媒として使用した。ナノディスク,ナノシート,ナノロッドなどの多様な形態のナノ構造を電着プロセスのパラメータを変えて電鋳ニッケル管上に開発した。ヘキサメチレンテトラミン(HMTA)配位子と適切な電流密度はニッケル基板上に良く整列したZnOナノロッドの成長をもたらした。前述の機能性基質の疎水性を濡れ性研究を通して調べ,接触角142°の超疎水性挙動に近づくことを見出した。解析モデルも開発し,良好な精度で金属管状表面上の液滴広がりから接触角を予測した。光触媒能力を,繊維染料の分解のためのZnOナノロッドを有する最も疎水性の基質を用いて評価した。より大きな表面積はより高い電荷分離の原因となる。したがって,この新規作製アプローチにより得られたナノロッド様構造は,他の報告された研究と比較して,60分以内に91.21%の強化された光触媒分解効率の背後に重要な役割を果たした。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 接触角 ,  *電着 ,  *廃水 ,  電鋳 ,  *ニッケル ,  染料 ,  *疎水性 ,  *酸化亜鉛 ,  電流密度 ,  *光触媒 ,  *ナノ構造 ,  ナノロッド ,  ナノシート
準シソーラス用語： 超疎水性 ,  ナノディスク , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ZnOナノ構造 ,  電着 ,  疎水性 ,  光触媒 ,  メチレンブルー

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (9件)： 廃水 ,  修復 ,  光触媒 ,  パルス電着 ,  疎水性 ,  ZnO ,  ナノ構造 ,  ニッケル ,  マイクロチューブ