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J-GLOBAL ID：202202251690576116   整理番号：22A0433658

Ag組み込みBiVO_4薄膜の一段階調製:光触媒活性増強におけるプラズモン-ヘテロ構造効果【JST・京大機械翻訳】

One-step preparation of Ag-incorporated BiVO₄ thin films: plasmon-heterostructure effect in photocatalytic activity enhancement

著者 (7件)： Bakhtiarnia Siavash (School of Metallurgy and Materials Engineering, College of Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran) ,  Bakhtiarnia Siavash (Institut FEMTO-ST, UMR 6174, CNRS, Univ. Bourgogne Franche-Comte, 15B, Avenue des Montboucons, Besancon 25030, France) ,  Sheibani Saeed (School of Metallurgy and Materials Engineering, College of Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran) ,  Aubry Eric (Institut FEMTO-ST, UMR 6174, CNRS, Univ. Bourgogne Franche-Comte, 15B, Avenue des Montboucons, Besancon 25030, France) ,  Sun Hui (School of Space Science and Physics, Shandong University, Weihai 264209, China) ,  Briois Pascal (Institut FEMTO-ST, UMR 6174, CNRS, Univ. Bourgogne Franche-Comte, 15B, Avenue des Montboucons, Besancon 25030, France) ,  Arab Pour Yazdi Mohammad (Institut FEMTO-ST, UMR 6174, CNRS, Univ. Bourgogne Franche-Comte, 15B, Avenue des Montboucons, Besancon 25030, France)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 580  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高い光触媒活性を有するAg組込みBiVO_4薄膜は,工業廃水処理のための大きな候補であり,BiVO_4の光活性を強化し,また,粉末光触媒のリサイクル性と再使用性の欠点を解決する。したがって,反応性マグネトロンスパッタリング技術の新規な1段階プロセスを採用し,この日はAg組込みBiVO_4薄膜合成に利用できなかった。光触媒特性に及ぼすAg導入の影響を比較研究した。X線回折(XRD)により,単斜晶BiVO_4,Ag_4V_2O_7,α-AgVO_3などの光活性相を検出した。Ag含有量に依存する種々のモルフォロジーを,膜表面のAgナノ粒子と共に電界放出電子顕微鏡(FESEM)によって観察した。X線光電子分光法(XPS)は,Bi+3とV+5酸化状態に排他的にBiとVの存在を証明し,一方,AgはAg+とAg0に存在し,それぞれ銀バナジウム酸塩とAgナノ粒子に対応する。24at%のAgを有する薄膜は,最低バンドギャップ(1.96eV),Ag_4V_2O_7相の適切な分布,膜表面上のAgナノ粒子のプラズモン効果,および光ルミネセンス(PL)スペクトルによって実証された元の試料と比較して,より低い再結合速度の結果として,可視光下で中性pHでローダミンBの99%の光分解で優れた光触媒性能を示した。リサイクル性実験は3回の連続サイクル後の薄膜の高い安定性を確実にし,スーパーオキシド(・-O_2-)と光生成正孔の役割はスカベンジャーを用いて重要であることが分かった。結果は,中性pHでのBiVO_4の低光活性を解決するだけでなく,Ag取り込みBiVO_4ヘテロ構造とプラズモン効果による光触媒活性の相乗的増強を確認した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  正孔 ,  *薄膜 ,  *プラズモン ,  *銀 ,  *ビスマス ,  *触媒活性 ,  可視光 ,  *光触媒 ,  スカベンジャー ,  バンドギャップ ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： *ヘテロ構造 ,  *光触媒活性 ,  銀ナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 光触媒 ,  BiVO_4 ,  Ag ,  ヘテロ構造 ,  薄膜 ,  スパッタリング

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (9件)： Ag ,  組み込み ,  薄膜 ,  段階 ,  調製 ,  光触媒活性 ,  増強 ,  プラズモン ,  ヘテロ構造