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J-GLOBAL ID:202202252972793070   整理番号:22A0973607

化学反応の動力学の理論的研究 H+SiCl_x(x=1,2,3)【JST・京大機械翻訳】

Theoretical Investigations for Kinetics of the Chemical Reactions: H + SiClx (x = 1, 2, 3)
著者 (6件):
資料名:
巻: 126  号: 10  ページ: 1689-1700  発行年: 2022年 
JST資料番号: C0334B  ISSN: 1089-5639  CODEN: JPCAFH  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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水素原子とSiCl_x(x=1,2,3)ラジカルは,工業用ポリシリコンの製造における重要なプロセスである四塩化けい素(STC,SiCl_4)の水素化の間に共存する。本研究では,HとSiCl_x(x=1,2,3)の間の反応の機構と速度論を理論によって研究した。反応物,生成物,中間体および遷移状態(TS)の構造と振動周波数をB2PLYP/may-cc-pVTZレベルで測定した。最小と鞍点の単一点エネルギーを,完全基底関数系外挿法で三重摂動(CCSD-(T))と結合クラスタ単一二重を用いて精密化した。いくつかの特別な処理を設計して,密度汎関数理論によってタイトなTSsのない単分子反応のための信頼できる波動関数を得た。続いて,各中間体(SiHCl_x)と浴ガス(He)の間のLennard-Jones(L-J)パラメータをMP2/jul-cc-pVTZレベルで得て,変分Rice-Ramsperger-Kassel-Marcus理論に従って,単分子反応の信頼できる温度および圧力依存性速度係数を導いた。二分子反応に対して,速度係数を変分遷移状態理論により決定した。最大自由エネルギーの緩いTSsに基づいて,バリアレス反応の速度係数を導いた。最後に,マスター方程式解析を用いて,活性化経路における圧力と温度による速度係数の変化を研究した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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原子とラジカルの反応  ,  イオンと分子の衝突・散乱 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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