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J-GLOBAL ID：202202254158224787   整理番号：22A0563290

ダイヤモンド様炭素膜の堆積に及ぼすHiPIMSパルス形状の影響【JST・京大機械翻訳】

HiPIMS pulse shape influence on the deposition of diamond-like carbon films

著者 (5件)： Serra R. (University of Coimbra, CEMMPRE Centre for Mechanical Engineering Materials and Processes, Department of Mechanical Engineering, Rua Luis Reis Santos, 3030-788 Coimbra, Portugal) ,  Ferreira F. (University of Coimbra, CEMMPRE Centre for Mechanical Engineering Materials and Processes, Department of Mechanical Engineering, Rua Luis Reis Santos, 3030-788 Coimbra, Portugal) ,  Cavaleiro A. (University of Coimbra, CEMMPRE Centre for Mechanical Engineering Materials and Processes, Department of Mechanical Engineering, Rua Luis Reis Santos, 3030-788 Coimbra, Portugal) ,  Cavaleiro A. (LED&Mat-IPN, Instituto Pedro Nunes, Laboratorio de Ensaios Desgaste e Materiais, Rua Pedro Nunes, 3030-199 Coimbra, Portugal) ,  Oliveira J.C. (University of Coimbra, CEMMPRE Centre for Mechanical Engineering Materials and Processes, Department of Mechanical Engineering, Rua Luis Reis Santos, 3030-788 Coimbra, Portugal)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 432  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2種類のパルス形状,1個の通常のHiPIMSパルスおよび短いマルチパルスHiPIMSを用いた2種類のパルス形状を用いて,2種類の高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)系を用いて硬質DLC膜を作製した。しかし,同様のDLC膜性能が達成され,異なる基板バイアス値に戻るが,パルス特性が膜特性に対する一つの決定因子であることを示した。結果は,短いマルチパルスHiPIMSが基板位置に達する荷電種の量を増加させることを示した。また,これらの条件を用いた蒸着DLC膜は,同じ機械的特性を達成するために,より低いエネルギー(低いバイアス値)を必要とすることを確認した。この効果は,振動の間のオフタイムの間に起こるバック誘引炭素イオンの減少に関連した。第二の効果は,プラズマ着火を助け,炭素イオン化を著しく増大させ,その結果,基板バイアスレベルの必要性を減少させ,より高い量のsp3結合ハイブリッド化を有するDLC膜を得るための,連続振動中のターゲット近傍における荷電種の存在であった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 機械的性質 ,  プラズマ ,  ターゲット ,  電荷 ,  パルス特性 ,  トライボロジー ,  *パルス ,  バイアス ,  ハイブリッド方式 ,  蒸着 ,  DLC膜 ,  *ダイヤモンド状炭素
準シソーラス用語： 基板バイアス ,  炭素イオン ,  *パルス波形 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： HiPIMS ,  バースト-HiPIMS ,  パルス形状 ,  硬質DLC ,  トライボロジー炭素イオン化レベル

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： ダイヤモンド様炭素 ,  堆積 ,  HiPIMS ,  パルス形状