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J-GLOBAL ID：202202254633457902   整理番号：22A1051931

高効率結晶シリコン太陽電池のためのキャリア選択接触における最近の進展:工業的に発展するアプローチ【JST・京大機械翻訳】

Recent advancements in carrier-selective contacts for high-efficiency crystalline silicon solar cells: Industrially evolving approach

著者 (10件)： Chee K.-W.A. (BK21 Plus, Kyungpook National University, Daegu 41566, Korea) ,  Chee K.-W.A. (Hefei National Laboratory for Physical Sciences at Microscale, and Department of Physics, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Ghosh B.K. (Faculty of Engineering (Energy Research Unit), University Malaysia Sabah, Kota Kinabalu, Sabah 88400, Malaysia) ,  Ghosh B.K. (Electrical and Electronic Engineering program, Faculty of Engineering, University Malaysia Sabah, Kota Kinabalu, Sabah 88400, Malaysia) ,  Saad I. (Electrical and Electronic Engineering program, Faculty of Engineering, University Malaysia Sabah, Kota Kinabalu, Sabah 88400, Malaysia) ,  Hong Y. (Department of Chemical and Biochemical Engineering, College of Chemistry and Chemical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Xia Q.H. (College of Information Science and Electronic Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Gao P. (School of Materials, Sun Yat-sen University, Guangzhou 510275, China) ,  Ye J. (Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering, Chinese Academy of Sciences, Ningbo 315201, China) ,  Ding Z.J. (Hefei National Laboratory for Physical Sciences at Microscale, and Department of Physics, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China)
資料名： Nano Energy  (Nano Energy)
巻： 95  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： W3116A  ISSN： 2211-2855  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キャリア選択結晶シリコンヘテロ接合(SHJ)太陽電池は,既に優れた実験室規模効率を達成した。賢明なウエハ厚さ設計に加えて,不動態化方式とキャリア選択材料の最適選択は産業採用にとって必須である。最小再結合損失によるプロセス複雑性と性能利益の適切な低減は鍵である。したがって,良く設計された背面接触と共に,キャリア選択接触(CSCs)として作用する低温加工可能な透明不動態化スタックの開発が,主流太陽電池における限られた開回路光電圧と接触関連損失を回避する可能性について強調された。このレビューにおいて,工業的に実行可能な不動態化接触開発へのそれらの重要性に焦点を当てて,非ドープ金属酸化物(MO)からドープシリコンまでの材料を展開する効果的な不動態化スキームを評価した。SiO_x/重ドープ多結晶シリコン(n+-/p+-poly-Si)を有する不動態化スタックアーキテクチャは,最も魅力的なポリシリコン-オキシド(POLO)接合および関連するスキーム,例えばトンネル酸化物不動態化接触(TOPCon)および交差指背面接触(IBC)太陽電池との組み合わせを実現した。工業動向は,p-Si不動態化エミッタ背面接触(PERC)と不動態化エミッタおよび背面ポリシリコン(PERPoly)から,高製造収率と大面積金属スクリーン印刷および代替二面設計との両立性により,TOPConアーキテクチャに向けて最終的にシフトすることである。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ヘテロ接合 ,  接触抵抗 ,  *太陽電池 ,  電圧 ,  スクリーン印刷 ,  *ケイ素 ,  不動態化 ,  金属酸化物 ,  ドーピング ,  開路 ,  計算機アーキテクチャ ,  ポリシリコン
準シソーラス用語： *高効率 ,  *結晶シリコン太陽電池 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 接触抵抗 ,  表面不動態化 ,  キャリア選択性 ,  電荷輸送 ,  熱安定性 ,  工業燃焼

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高効率 ,  結晶シリコン太陽電池 ,  キャリア選択 ,  進展 ,  工業 ,  発展