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J-GLOBAL ID：202202255595645012   整理番号：22A0731603

抗生物質耐性遺伝子の除去を強化するためのバイオチャーの利用:性能と機構【JST・京大機械翻訳】

Using biochar to strengthen the removal of antibiotic resistance genes: Performance and mechanism

著者 (5件)： Wu Changyong (Research Center of Environmental Pollution Control Engineering Technology, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Fu Liya (Research Center of Environmental Pollution Control Engineering Technology, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Li Huiqi (Research Center of Environmental Pollution Control Engineering Technology, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Liu Xiang (Research Center of Environmental Pollution Control Engineering Technology, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Wan Chunli (Department of Environmental Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200438, China)
資料名： Science of the Total Environment  (Science of the Total Environment)
巻： 816  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0501B  ISSN： 0048-9697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,過剰活性スラッジを熱分解に用いて,Ce改質によるバイオチャーを製造した。バイオチャーによるアンピシリン耐性遺伝子(ARG_Amp)の除去過程と機構を研究した。結果は,400°Cで余剰スラッジを熱分解するとき,スラッジ中の有機成分が部分的に熱分解され,Ceと錯体化されることを示した。フェノールまたはキノンから電子を受容することにより,残留フリーラジカル(PFRs)がバイオ炭の表面に形成された。初期ARG_Amp濃度41.43mg/Lの最適条件下で,吸着,PFRs,ヒドロキシル遊離ラジカル(OH)のH_2O_2添加による除去率が28.37%,8.26%,および27.56%であった。処理試料には融解DNAは検出されなかった。PFRsと・OHによる酸化プロセスは,ARG_Ψ構造を直接破壊できた。塩基積層構造におけるホスホジエステル結合とヌクレオチド中のリン酸塩結合はPFRsの可能な作用部位である。処理したARG_Amp生成物は塩基対残基または短鎖二重螺旋構造であった。・OHはヌクレオチド分子の塩基に添加され,高活性フリーラジカル付加物を形成する。それらは分子脱水素と分子間プロトン移動を開始し,リン酸塩糖骨格の切断への塩基の酸化をもたらす。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸着 ,  熱分解 ,  ラジカル ,  セリウム ,  錯体生成 ,  脱水素 ,  リン酸塩 ,  キノン ,  プロトン移動 ,  DNA【核酸】 ,  *遺伝子 ,  ヌクレオチド ,  *チャー ,  フェノール類
準シソーラス用語： 残基 ,  *バイオチャー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 抗生物質耐性遺伝子(ARGs) ,  余剰スラッジ ,  バイオ炭 ,  フリーラジカル ,  吸着

分類 (1件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (3件)： 抗生物質耐性遺伝子 ,  強化 ,  バイオチャー