ホスホン酸錯体で表面修飾した高分散ベーマイトに基づく収着剤:調製とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Kropacheva T. N.; Gazizyanova A. R.; Kornev V. I.

文献

J-GLOBAL ID：202202255631100932 整理番号：22A0888308

ホスホン酸錯体で表面修飾した高分散ベーマイトに基づく収着剤:調製とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Sorbents Based on Highly Dispersed Boehmite Surface-Modified with Phosphonic Complexones: Preparation and Characterization

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資料名：
巻： 67 号： 2 ページ： 139-149 発行年： 2022年
JST資料番号： A1028A ISSN： 0036-0236 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

新しい錯体化吸着剤を,ホスホン酸(PCs),すなわち,ニトリロトリ(メチレンホスホン酸)(NTP),1-ヒドロキシエタン-1,1′-ジホスホン酸(HEDP),N-ヒドロキシエチルイミノ-N,N-ジ(メチレンホスホン酸)(HEIDP),およびイミノ-N,N-diacetic-N-メチレンホスホン酸(IDAMP)によって,高度に分散したベーマイト(γ-AlO(OH))の化学的表面変性によって,製造した。(PCs),すなわち,ニトリロトリ(メチレンホスホン酸)酸(NTP),1-ヒドロキシエタン-1,1′-ジホスホン酸(HEDP),N-ヒドロキシエチルイミノ-N,N-ジ(メチレンホスホン酸)(HEIDP),およびイミノ-N,N-diacetic-N-メチレンホスホン酸(IDAMP)。製造したPC-ベーマイト材料をXRD,BET,SEM,TEMおよびIR分光法によって特性化した。改質剤アンカがコンプレコンのホスホン酸官能基の1つである修飾ベーマイトは,二重荷電金属イオンに対する錯体化担体の性質を示す。PC-ベーマイトの速度論的特性と収着容量を決定した。改質表面上の錯化選択性は以下の減少順で配置された:Pb(II)>Cu(II)>Zn(II)≒Ni(II)≒Co(II)≒Cd(II)>Ca(II)。金属イオンの吸着状態の安定性は,IDAMP>NTP>HEDP>HEIDPの順序で一連の表面固定コンプレノンに沿って変化した。この傾向は,溶液中およびベーマイト表面上のホスホン酸錯体を含む錯体形成間の密接な相関を明らかにした。Copyright Pleiades Publishing, Ltd. 2022. ISSN 0036-0236, Russian Journal of Inorganic Chemistry, 2022, Vol. 67, No. 2, pp. 139-149. Copyright Pleiades Publishing, Ltd., 2022. Russian Text Copyright The Author(s), 2022, published in Zhurnal Neorganicheskoi Khimii, 2022, Vol. 67, No. 2, pp. 156-167. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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有機りん化合物 , 第11族,第12族元素の錯体 , 固-液界面 , 吸着,イオン交換

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