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J-GLOBAL ID：202202256416240545   整理番号：22A0567114

酸性銅エッチング廃水からのCu(II)とCu(I)のO_2酸化とのNH_3→H_2O脱錯体化カップリングによる除去【JST・京大機械翻訳】

Removal of Cu(II) and Cu(I) from acidic copper etching wastewater by NH₃・H₂O decomplexation coupling with O₂ oxidation

著者 (8件)： Dou Wenyue (Jiangsu Key Laboratory of Industrial Pollution Control and Resource Reuse, School of Environmental Engineering, Xuzhou University of Technology, Xuzhou 221018, China) ,  Peng Xianjia (State Key Laboratory of Environmental Aquatic Chemistry, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Peng Xianjia (Beijing Key Laboratory of Industrial Wastewater Treatment and Resource Recovery, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Peng Xianjia (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) ,  Kong Linghao (State Key Laboratory of Environmental Aquatic Chemistry, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Kong Linghao (Beijing Key Laboratory of Industrial Wastewater Treatment and Resource Recovery, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Xingyun Hu (State Key Laboratory of Environmental Aquatic Chemistry, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Xingyun Hu (Beijing Key Laboratory of Industrial Wastewater Treatment and Resource Recovery, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 285  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸性銅エッチング廃水の処理のための開発方法の欠如は,プリント回路基板(PCB)産業において常に厳しい問題である。本研究では,酸性銅エッチング廃水からのCu(II)とCu(I)の除去のために,O_2による酸化とNH_3・H_2Oカップリングによる脱錯体化と中和と沈殿の改良アプローチを研究した。v(NH_3・H_2O):v(廃棄物)0.35で30°CでO_2の一定添加でNH_3・H_2Oを用いて処理した廃水の後,Cu_tの96.9%がCu_2(OH)_3Cl沈殿物の形で効果的に除去された。Cu(II)の除去機構は次の通りである。(1)NH_3・H_2OはH+と反応し,pH値の増大をもたらす。(2)Cu(II)-Cl(-I)錯体はNH_3・H_2Oと反応してCu_2(OH)_3Clを生成する。Cu(I)について,除去機構を以下の通り提案した。(1)安定なCuCl_43-はNH_3・H_2Oによって脱錯体化してCu(NH_3)_4+を生成した。(2)Cu(NH_3)_4+はO_2によって酸化され,Cu(NH_3)_42+を生成した。(3)Cu(NH_3)_42+はCl(-I)とH_2Oと反応してCu_2(OH)_3Clを生成した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *エッチング ,  *酸化 ,  *廃水 ,  *銅 ,  沈殿 ,  廃棄物 ,  *錯体生成 ,  原子価 ,  プリント基板 ,  *酸性 ,  沈殿物 ,  pH【水素イオン指数】

著者キーワード (5件)： 酸性銅エッチング廃水 ,  脱錯体化 ,  酸素酸化 ,  降水 ,  Cu(I)の原子価変換

分類 (1件)： 抽出  (XD02030B)

タイトルに関連する用語 (8件)： 酸性 ,  銅 ,  エッチング ,  廃水 ,  Cu ,  酸化 ,  錯体化 ,  カップリング