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J-GLOBAL ID:202202256429872893   整理番号:22A0428976

グラフェンナノ材料の電子構造特性とLiおよびNa貯蔵容量に及ぼすNドーピングの影響:第一原理研究【JST・京大機械翻訳】

The effect of N-doping on the electronic structure property and the li and Na storage capacity of graphene nanomaterials: A first-principles study
著者 (2件):
資料名:
巻: 403  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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第一原理計算を行い,グラフェンナノ材料の電子構造特性とLi/Na貯蔵挙動に及ぼすNドーピングの影響を調べた。著者らの計算は,Nドーピング処理がグラフェン中のC空格子点欠陥の数を効果的に増加でき,C空格子点上のLi/Na原子の吸着エネルギーが,空格子点サイトでのピリジン/ピロール-N原子の増加により大きく増強されることを明らかにした。しかし,C空格子点欠陥の可逆的Li/Na容量はNのドーピングレベルの増加により大きく減少し,これは主にNドープグラフェン構造の電子構造特性とLi/Naとの強い静電相互作用によって決定された。その結果,グラフェン表面上のNドーピングによるLi/Na容量の増強は,基底面上のピリジン-/ピロール-Nの存在よりむしろ多数のC空格子点欠陥の形成に主として起因できることが明らかになった。また,この計算は,ピリジン-Nドープグラフェンエッジが,NドープC空格子点欠陥に匹敵するLi/Na容量を有することを示した。それにもかかわらず,この過剰Li/Na容量は,これらのエッジピリジン-N基上のH原子の終端により大きく減少することを見出した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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