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J-GLOBAL ID：202202256761832100   整理番号：22A0894215

銅カルベノイドのO-H挿入反応に及ぼす置換基効果の理論的研究【JST・京大機械翻訳】

Theoretical study of the substituent effect on the O-H insertion reaction of copper carbenoids

著者 (3件)： Duran Rocio (QTC, Departamento de Quimica Fisica, Escuela de Quimica, Facultad de Quimica y de Farmacia, Pontificia Universidad Catolica de Chile, Santiago, Chile) ,  Duran Rocio (Centro de Bioinformatica, Simulacion y Modelado (CBSM), Facultad de Ingenieria, Universidad de Talca, Talca, Chile) ,  Herrera Barbara (QTC, Departamento de Quimica Fisica, Escuela de Quimica, Facultad de Quimica y de Farmacia, Pontificia Universidad Catolica de Chile, Santiago, Chile)
資料名： Theoretical Chemistry Accounts - Theory, Computation, and Modeling  (Theoretical Chemistry Accounts - Theory, Computation, and Modeling)
巻： 141  号： 3  ページ： 15  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0299A  ISSN： 1432-881X  CODEN： TCACFW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,銅カルベノイドにおけるOH挿入反応における置換基変化に伴う反応性を研究した。この目的のために,著者らは,M06-2X汎関数を,光原子のためのcc-pVDZおよび銅のためのLanL2DZを用いて使用した。IRC挿入プロファイルを調べ,求電子性(ω)およびpK_a計算のような反応性指数を解析した。R1置換フェニル基で,R2置換アミド基が反応障壁をかなり低下させることを見出した。基質反応に関して,最も好ましい置換基はパラ位置のNO_2である。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *銅 ,  理論 ,  *置換基効果 ,  反応性 ,  *カルベン ,  *挿入反応 ,  基質 ,  計算 ,  汎関数 ,  反応機構 ,  ポテンシャル障壁 ,  計算化学
準シソーラス用語： *カルベノイド ,  求電子性 ,  反応障壁 ,  *置換基 ,  アミド基 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： カルベノイド ,  計算化学 ,  OH挿入 ,  反応機構

分類 (2件)： 分子の電子構造  (BH05010Q) ,  第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： 銅 ,  カルベノイド ,  挿入反応 ,  置換基効果 ,  理論 ,  研究