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J-GLOBAL ID:202202258576255342   整理番号:22A0388469

11遷移金属の磁気誘導加熱によるグラフェンと2D材料合成のコンピュータ支援設計【JST・京大機械翻訳】

Computer-aided design of graphene and 2D materials synthesis via magnetic inductive heating of 11 transition metals
著者 (9件):
資料名:
巻: 55  号: 10  ページ: 105302 (23pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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RF磁場誘導熱金属箔がグラフェンを成長させる高周波(RF)誘導加熱システムの性能に及ぼす最も影響力のある操作パラメータの影響を決定するために,数値シミュレーションを行った。システムの熱効率は,材料の電気伝導率と皮膚深さと同様に形状に依存する。標準グラフェンおよび2D材料成長条件中の過渡温度および磁場分布を予測するために,有限要素ソフトウェアを用いて,特定のグラフェンおよび二次元(2D)材料成長条件下で,プロセスをシミュレーションした。提案したモデルは,Ag,Au,Cu,Ni,Co,Pd,Pt,Rh,Ir,MoおよびWを含む,異なるコイルHelmholtz様形状および11の金属箔を考慮した。各場合において,グラフェンとMoS_2成長に適した温度範囲1035°C~1084°Cまたは700°C~750°Cのプロセス変数の最適窓を見出した。エッジと基板の中心の間のシミュレートしたプロファイルから計算した温度勾配は,Au,Ag,Cuのような貨 metals金属に対して~2%以下の熱均一性を示し,Pdに対して7%までであった。銅上のグラフェン成長に対してモデル検証を行った。その限られた熱伝導率のため,良好な加熱均一性が得られた。結果として,欠陥の少ない銅上の単層グラフェンの全被覆と~2μmの結晶粒ドメインサイズが得られた。基板温度は,約90秒後に大気から~1035°Cに達し,モデル予測と非常によく一致した。これは,省エネルギーによる高速,局所,均一,および正確な加熱に関してプロセス効率の改善を可能にする。これらの利点により,誘導加熱はグラフェンと2D材料の大規模で迅速な製造に大きな可能性を有する。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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