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J-GLOBAL ID：202202260323590570   整理番号：22A0891835

噴霧熱分解により作製した弱くMgドープZnO薄膜のオプトエレクトロニックおよび複屈折特性【JST・京大機械翻訳】

Optoelectronic and birefringence properties of weakly Mg-doped ZnO thin films prepared by spray pyrolysis

著者 (10件)： Bouachiba Y. (Laboratoire Technologie des Materiaux Avances, Ecole Nationale Polytechnique de Constantine Malek Bennabi, Constantine, Algeria) ,  Mammeri A. (Laboratoire Couches Minces et Interfaces, Universite de Freres Mentouri Constantine 1, Constantine, Algeria) ,  Bouabellou A. (Laboratoire Couches Minces et Interfaces, Universite de Freres Mentouri Constantine 1, Constantine, Algeria) ,  Rabia O. (Laboratoire Technologie des Materiaux Avances, Ecole Nationale Polytechnique de Constantine Malek Bennabi, Constantine, Algeria) ,  Saidi S. (Laboratoire Technologie des Materiaux Avances, Ecole Nationale Polytechnique de Constantine Malek Bennabi, Constantine, Algeria) ,  Taabouche A. (Laboratoire Couches Minces et Interfaces, Universite de Freres Mentouri Constantine 1, Constantine, Algeria) ,  Rahal B. (Nuclear Techniques Division, Nuclear Research Center of Algiers, Algiers, Algeria) ,  Benharrat L. (Research Center in Semiconductors Technology for Energy-CRTSE, Algiers, Algeria) ,  Serrar H. (Research Center in Industrial Technologies (CRTI), Algiers, Algeria) ,  Boudissa M. (ENMC Laboratory, Department of Physics, Faculty of Science, University Ferhat Abbas, Setif, Algeria)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 33  号： 9  ページ： 6689-6699  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Mg_xZn_1-xO薄膜を,450°Cの温度で噴霧熱分解により0.01~0.05のxで変化させたガラス基板上に堆積させた。構造研究は,すべての薄膜が優先(002)配向を有するZnOウルツ鉱型構造を有することを示した。Taucプロットを用いてギャップエネルギーを計算し,0.07eVのMg含有量で低下した。電荷キャリアの密度はMg含有量が増加するにつれて105のオーダーで低下し,抵抗率と移動度は増加した。SEM観察は,非ドープとドープ薄膜の間に有意差を明らかにした。632.8nmのレーザ源プリズム結合器は,各横方向電気モードと横方向磁気モードにおける各薄膜に対して2つの光学モードを明らかにし,Mgドープ膜の複屈折は正であった。Mg含有量が増加すると,通常の屈折率と異常な屈折率の両方が減少することが分かった。屈折率,電荷キャリア密度,および光学バンドギャップの間の関係に大きな意図が払われた。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 温度 ,  屈折率 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  *複屈折 ,  *マグネシウム ,  プリズム ,  *酸化亜鉛 ,  磁気 ,  *ドーピング ,  光学ギャップ
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *噴霧熱分解法 ,  走査電子顕微鏡法 ,  電荷キャリア , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 噴霧熱分解 ,  作製 ,  Mg ,  ドープ ,  ZnO薄膜 ,  複屈折